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Dado oficial do INPI

MÉTODO E DISPOSITIVO PARA APLICAR UM MEIO DE APLICAÇÃO A UMA MANTA DE PAPEL OU DE PAPELÃO EM MOVIMENTO

PublicadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

102025009394

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

12/05/2025

Publicação

09/12/2025

Andamento no INPI

Exame ainda não requerido
  1. Depósito12/05/25
  2. Publicação09/12/25
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

O exame técnico ainda não foi requerido. Sem esse requerimento até 12/05/2028, o pedido é arquivado em definitivo (art. 33 da LPI).

Prazo para requerer o exame:12/05/2028(faltam 584 dias)

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Última movimentação publicada pelo INPI: 09/12/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

ANDRITZ KÜSTERS GMBH

DE

Inventores

A. P. (pessoa física)

DE

E. D. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

DE

10 2024 113 445.3 · 14/05/2024

EP

25173990.0 · 02/05/2025

Resumo técnico

MÉTODO E DISPOSITIVO PARA APLICAR UM MEIO DE APLICAÇÃO A UMA MANTA DE PAPEL OU DE PAPELÃO EM MOVIMENTO. Método e dispositivo para aplicar pelo menos um meio de aplicação líquido ou pastoso através de uma unidade de aplicação de jato livre a um substrato em movimento, em que o substrato é a superfície de uma manta de papel, de papelão ou de outro material fibroso no caso de aplicação direta e a superfície de um elemento de transferência, em particular um rolo aplicador (4, 5), no caso de aplicação indireta, que transfere o meio de aplicação para a superfície da manta de material fibroso (9), em particular em um nip de tratamento (N), e a unidade de aplicação por jato livre tem pelo menos um bico de jato livre (1.1, 1.2) com uma abertura de saída (B) para descarregar um jato de meio (2.1, 2.2), que aplica o jato de meio (2.1, 2.2) de forma semelhante a um filme na superfície do substrato e atinge uma largura desejada de uma camada de aplicação em uma posição de impacto (12), em que um dispositivo para ajustar a intensidade do impulso do jato de meio (2.1, 2.2) está disposto na posição de impacto (12), em que o dispositivo é projetado como um sistema de posicionamento para deslocamentos posicionais e angulares (11, 13, 18) do bico de jato livre (1.1, 1.2) em relação ao substrato, em que uma direção de referência para descrever a posição atual e a posição angular do bico de jato livre (1.1, 1.2) em relação à posição de impacto (12) é dada pelo campo gravitacional.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Publicação do pedido de patente

#3.1

09/12/2025

RPI 2866

Pedido de patente depositado

#2.1

04/11/2025

RPI 2861

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870250038195' em 12/05/2025 13:41 (WB)

20/05/2025

RPI 2837

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