Publicação do pedido de patente
#3.1
30/06/2026
RPI 2895
Dados do pedido
Número
102024026760Tipo
Depósito
Publicação
O exame técnico ainda não foi requerido. Sem esse requerimento até 19/12/2027, o pedido é arquivado em definitivo (art. 33 da LPI).
Prazo para requerer o exame:19/12/2027(faltam 423 dias)
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 30/06/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
SHINAGAWA REFRATÁRIOS DO BRASIL LTDA
SP, BR
Inventores
A. G. (pessoa física)
BR
H. L. (pessoa física)
BR
Classificação IPC
Resumo técnico
MÉTODO DE MONITORAMENTO CONTÍNUO DE DESGASTE REFRATÁRIO. Descreve-se um método de monitoramento contínuo de desgaste refratário, particularmente utilizado para acompanhar desgastes de paredes refratárias de fornos durante a operação a altas temperaturas, a partir da inserção de pelo menos um dispositivo de medição de temperaturas (30) em um revestimento refratário (50) a ser monitorado para coletar dados de temperatura em uma porção interna do refratário (51); coletar dados de temperaturas de pelo menos um dispositivo de medição de temperaturas (30) por um aparelho de coleta e tratamento de dados (40); o aparelho de coleta e tratamento de dados (40) recebendo uma pluralidade de dados operacionais e a partir desses dados operacionais sendo responsável por: (iii) determinar continuamente um Número Adimensional Térmico (NAT) a partir da relação: NAT= T0/T1 em que T0 corresponde à temperatura de campanha e T1 corresponde à temperatura continuamente coletada da porção interna (51) do revestimento refratário (50) por meio de pelo menos um dispositivo de medição de temperaturas (30); e (ii) criar pelo menos um algoritmo correlacionando o Número Adimensional Térmico (NAT) com os dados operacionais resultando em um modelo de previsibilidade de espessura de residual refratário (10).
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#3.1
30/06/2026
RPI 2895
#2.1
03/06/2025
RPI 2839
#2.10
Número de Protocolo '870240108619' em 19/12/2024 15:40 (WB)
31/12/2024
RPI 2817
Do mesmo titular
Monitoramento de patentes
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