EQUIPAMENTO PARA DEPOSIÇÃO DE FILMES VIA ROTA DE PIRÓLISE POR PULVERIZAÇÃO

Classificação IPC

Resumo técnico

EQUIPAMENTO PARA DEPOSIÇÃO DE FILMES VIA ROTA DE PIRÓLISE POR PULVERIZAÇÃO. O presente pedido de invenção trata de um equipamento para deposição de filmes via rota de pirólise por pulverização com aplicação na área de síntese de materiais visando o revestimento de substratos diversos. É sabido que a deposição de filmes via rota de pirólise por pulverização envolve a pulverização de uma solução em um substrato aquecido, o que implica na geração de vapores, para que, após a pulverização, o filme esteja completamente depositado no substrato. Sabe-se que, em se tratando de síntese de materiais, a ação humana pode provocar erros de produção e riscos à reprodutibilidade e padronização dos resultados. Com o intuito de solucionar tais problemas desenvolveu-se a presente invenção, através da qual o sistema de acionamento do aerógrafo é remoto e, além disso, há um sistema de isolamento da célula reacional. Como efeito técnico novo, obtémse um equipamento capaz de proporcionar mais reprodutibilidade, padronização e controle da deposição, além de proporcionar maior segurança ao usuário, reduzindo significativamente a chance de o usuário inalar vapores resultantes da síntese, potencializando, também, a eficiência da célula reacional, devido à redução de troca de calor entre a célula reacional e o ambiente externo. Adicionalmente, o uso de uma base aquecedora imantada proporciona mais estabilidade no posicionamento, ao se utilizarem substratos metálicos. Portanto, foi desenvolvido esse equipamento caracterizado por possuir um sistema de acionamento do aerógrafo (60), formado por uma válvula solenoide (61), um regulador de fluxo (62), um dispositivo de acionamento (63), um componente fixador do gatilho (64) e um sistema de isolamento da célula reacional (70), formado por uma câmara (71), preferencialmente de madeira, e um acesso (72), preferencialmente uma porta de acrílico.