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Dado oficial do INPI

SISTEMA PARA PRODUÇÃO EM GRANDE ESCALA DE FILMES DE MATERIAIS DE VAN DER WAALS

PublicadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Patente de Invenção SISTEMA PARA PRODUÇÃO EM GRANDE ESCALA DE FILMES DE MATERIAIS DE VAN DER WAALS de FUNDAÇÃO UNIVERSIDADE DE BRASILIA — IPC B82Y 40/00
Patente de Invenção SISTEMA PARA PRODUÇÃO EM GRANDE ESCALA DE FILMES DE MATERIAIS DE VAN DER WAALS de FUNDAÇÃO UNIVERSIDADE DE BRASILIA — IPC B82Y 40/00. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

102024015706

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

31/07/2024

Publicação

10/02/2026

Andamento no INPI

Exame ainda não requerido
  1. Depósito31/07/24
  2. Publicação10/02/26
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

O exame técnico ainda não foi requerido. Sem esse requerimento até 31/07/2027, o pedido é arquivado em definitivo (art. 33 da LPI).

Prazo para requerer o exame:31/07/2027(faltam 341 dias)

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Última movimentação publicada pelo INPI: 10/02/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

FUNDAÇÃO UNIVERSIDADE DE BRASILIA

DF, BR

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

F. G. (pessoa física)

BR

J. M. (pessoa física)

BR

J. F. (pessoa física)

BR

L. C. (pessoa física)

BR

L. J. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

SISTEMA PARA PRODUÇÃO EM GRANDE ESCALA DE FILMES DE MATERIAIS DE VAN DER WAALS. A presente inovação trata de um sistema que não apenas torna a deposição de filmes finos e/ou filmes espessos de materiais vdWs mais acessível, econômica, eficiente e versátil, mas também representa um avanço notável no campo de deposição desses materiais. Até então, com a deposição por esfoliação mecânica convencional, conseguia-se apenas alguns micrômetros quadrados de recobrimento superficial de um dado substrato e obtinha-se de forma manual, sem nenhum ou pouco controle. Com o sistema automático aqui apresentado é possível depositar filmes finos de materiais de van der Waals não somente sobre pequenas áreas, mas também sobre grandes áreas. Este avançado sistema de deposição, é composto por um suporte mecânico robusto, uma plataforma de deposição, um conjunto de sensores avançados, uma cabeça mecânica com motores de passo automatizados, um sistema de monitoramento em tempo real, e um software que integra e comanda todas as partes para efetuar o processo de deposição. Ademais, esse sistema automático se destaca frente ao que existe na literatura por apresentar um processo de esfoliação mecânica usando material de vdW em pó.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/02/2026

RPI 2875

Pedido de patente depositado

#2.1

31/12/2024

RPI 2817

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

Teor da exigência disponível no parecer(pdf) - acesse:Buscaweb no Portal do INPI.Prazo para cumprimento - 30(Trinta) dias corridos contados do 1º dia útil após essa publicação(não confunda o prazo de 30 dias,com 1 mês ou com 31 dias).Protocole a petição de cumprimento - Guia de Recolhimento da União(GRU) de código 206(Cumprimento de exigência formal preliminar) + documentos corrigidos, de acordo com o parecer.O pedido com exigência não cumprida ou cumprida fora do prazo terá sua documentação arquivada e o depósito será considerado não efetuado.

03/12/2024

RPI 2813

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870240064766' em 31/07/2024 14:17 (WB)

13/08/2024

RPI 2797

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