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Dado oficial do INPI

SISTEMAS E MÉTODOS DE LIMPEZA DE ÍON FLUORETO INCLUINDO PROCESSAMENTO DE FLUXO DE FLUIDO PÓS-RETORTA

PublicadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

102024007215

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

12/04/2024

Publicação

11/02/2025

Andamento no INPI

Exame ainda não requerido
  1. Depósito12/04/24
  2. Publicação11/02/25
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

O exame técnico ainda não foi requerido. Sem esse requerimento até 12/04/2027, o pedido é arquivado em definitivo (art. 33 da LPI).

Prazo para requerer o exame:12/04/2027(faltam 231 dias)

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Última movimentação publicada pelo INPI: 11/02/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

GENERAL ELECTRIC TECHNOLOGY GMBH

CH

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Inventores

J. D. (pessoa física)

US

J. L. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

18/307120 · 26/04/2023

Resumo técnico

SISTEMAS E MÉTODOS DE LIMPEZA DE ÍON FLUORETO INCLUINDO PROCESSAMENTO DE FLUXO DE FLUIDO PÓS-RETORTA. Um sistema de limpeza de íon fluoreto (100) inclui uma retorta (102) para limpar pelo menos um componente (106) através de um fluido de trabalho fornecido à retorta, um subsistema pós-retorta (140) para processar um fluxo de fluido pós-retorta que sai da retorta a uma primeira temperatura, e um purificador (134) a jusante do subsistema pós-retorta. O subsistema pós-retorta (140) inclui um separador (142) em comunicação de fluxo com a retorta (102). O separador (142) inclui uma entrada (146) para receber o fluxo de fluido pós-retorta da retorta (102) e uma saída (148) para o fluxo de fluido pós-retorta que sai do separador. O subsistema pós-retorta (140) também inclui um dispositivo de resfriamento (144) para resfriar seletivamente o fluxo de fluido pós-retorta até uma segunda temperatura, sendo que a segunda temperatura é menor que a primeira temperatura. A segunda temperatura permite que o particulado seja separado do fluxo de fluido pós-retorta dentro do separador (142).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Publicação do pedido de patente

#3.1

11/02/2025

RPI 2823

Pedido de patente depositado

#2.1

13/08/2024

RPI 2797

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870240032027' em 12/04/2024 17:00 (WB)

24/04/2024

RPI 2781

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