Publicação do pedido de patente
#3.1
11/02/2025
RPI 2823
Dados do pedido
Número
102024007215Tipo
Depósito
Publicação
O exame técnico ainda não foi requerido. Sem esse requerimento até 12/04/2027, o pedido é arquivado em definitivo (art. 33 da LPI).
Prazo para requerer o exame:12/04/2027(faltam 231 dias)
Última movimentação publicada pelo INPI: 11/02/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
GENERAL ELECTRIC TECHNOLOGY GMBH
CH
Inventores
J. D. (pessoa física)
US
J. L. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
18/307120 · 26/04/2023
Resumo técnico
SISTEMAS E MÉTODOS DE LIMPEZA DE ÍON FLUORETO INCLUINDO PROCESSAMENTO DE FLUXO DE FLUIDO PÓS-RETORTA. Um sistema de limpeza de íon fluoreto (100) inclui uma retorta (102) para limpar pelo menos um componente (106) através de um fluido de trabalho fornecido à retorta, um subsistema pós-retorta (140) para processar um fluxo de fluido pós-retorta que sai da retorta a uma primeira temperatura, e um purificador (134) a jusante do subsistema pós-retorta. O subsistema pós-retorta (140) inclui um separador (142) em comunicação de fluxo com a retorta (102). O separador (142) inclui uma entrada (146) para receber o fluxo de fluido pós-retorta da retorta (102) e uma saída (148) para o fluxo de fluido pós-retorta que sai do separador. O subsistema pós-retorta (140) também inclui um dispositivo de resfriamento (144) para resfriar seletivamente o fluxo de fluido pós-retorta até uma segunda temperatura, sendo que a segunda temperatura é menor que a primeira temperatura. A segunda temperatura permite que o particulado seja separado do fluxo de fluido pós-retorta dentro do separador (142).
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#3.1
11/02/2025
RPI 2823
#2.1
13/08/2024
RPI 2797
#2.10
Número de Protocolo '870240032027' em 12/04/2024 17:00 (WB)
24/04/2024
RPI 2781
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