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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO ELETROQUÍMICO E DISPOSITIVO ELETRÔNICO

Em ExigênciaPatente de Invenção

Dados do pedido

Patente de Invenção DISPOSITIVO ELETROQUÍMICO E DISPOSITIVO ELETRÔNICO de NINGDE AMPEREX TECHNOLOGY LIMITED — IPC H01M 10/0565
Patente de Invenção DISPOSITIVO ELETROQUÍMICO E DISPOSITIVO ELETRÔNICO de NINGDE AMPEREX TECHNOLOGY LIMITED — IPC H01M 10/0565. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

102024006171

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

27/03/2024

Publicação

24/09/2024

Andamento no INPI

Parecer técnico a responder
  1. Depósito27/03/24
  2. Publicação24/09/24
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

O INPI emitiu parecer técnico sobre a patenteabilidade. O depositante tem de se manifestar para o exame prosseguir.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 01/04/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

NINGDE AMPEREX TECHNOLOGY LIMITED

CN

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Inventores

H. C. (pessoa física)

CN

J. L. (pessoa física)

CN

W. L. (pessoa física)

CN

Y. Z. (pessoa física)

CN

Dados técnicos

Prioridades unionistas

CN

202310322545.3 · 29/03/2023

Resumo técnico

DISPOSITIVO ELETROQUÍMICO E DISPOSITIVO ELETRÔNICO.Este pedido fornece um dispositivo eletroquímico e um dispositivo eletrônico contendo o mesmo. O dispositivo eletroquímico inclui um eletrodo negativo e uma solução eletrolítica. O eletrodo negativo inclui um coletor de corrente negativa e uma camada de mistura de eletrodo negativo disposta sobre uma superfície do coletor de corrente negativa. A camada de mistura de eletrodo negativo inclui uma primeira seção, uma segunda seção e uma terceira seção dispostas sequencialmente em uma direção da espessura. A primeira seção, a segunda seção e a terceira seção têm espessura idêntica. Uma razão entre uma porosidade P1 da primeira seção e uma porosidade P2 da terceira seção é P. A solução eletrolítica inclui um aditivo A. O aditivo A é pelo menos um selecionado a partir de um composto de Fórmula I ou um composto de Fórmula II:Com base na massa total da solução eletrolítica, uma porcentagem em massa do aditivo A é w%, satisfazendo 1 = w = 60, P = P1/P2 e P/(w%+1) = 50%.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Parecer de pré-exame

#6.23

01/04/2025

RPI 2830

Publicação antecipada

#3.2

24/09/2024

RPI 2803

Pedido de patente depositado

#2.1

18/06/2024

RPI 2789

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870240026957' em 27/03/2024 16:52 (WB)

09/04/2024

RPI 2779

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