Patente de Invenção PROCESSO DE TRATAMENTO DE EFLUENTES DA INDÚSTRIA DE SEMICONDUTORES de HT MICRON SEMICONDUTORES S/A — IPC B09B 3/38. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.
PROCESSO DE TRATAMENTO DE EFLUENTES DA INDÚSTRIA DE SEMICONDUTORES. A presente invenção descreve um processo de tratamento de efluentes da indústria de semicondutores compreendendo etapas de separação física dos sólidos e da água. Especificamente, a presente invenção compreende um processo simples e eficaz para reaproveitar os resíduos gerados na indústria de semicondutores. A presente invenção se situa nos campos da Engenharia Mecânica e de Processos.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Publicação do pedido de patente
#3.1
07/10/2025
RPI 2857
Pedido de patente depositado
#2.1
10/09/2024
RPI 2801
Exigência - art. 21 da LPI
#2.5
Teor da exigência disponível no parecer (pdf) - acesse: Buscaweb no Portal do INPI. Prazo para cumprimento - 30 (Trinta) dias corridos contados do 1º dia útil após essa publicação (não confunda o prazo de 30 dias, com 1 mês ou com 31 dias). Protocole a petição de cumprimento - Guia de Recolhimento da União (GRU) de código 206 (Cumprimento de exigência formal preliminar) + documentos corrigidos, de acordo com o parecer. O pedido com exigência não cumprida ou cumprida fora do prazo não será aceito e terá sua numeração anulada.
02/07/2024
RPI 2791
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo '870240026390' em 26/03/2024 17:06 (WB)
