Publicação do pedido de patente
#3.1
17/12/2024
RPI 2815
Dados do pedido
Número
102023011847Tipo
Depósito
Publicação
Pedido publicado na RPI em 17/12/2024 e já visível a qualquer interessado. Segue para o exame técnico do INPI.
Última movimentação publicada pelo INPI: 17/12/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
U. P. (pessoa física)
PI, BR
U. N. (pessoa física)
RN, BR
Inventores
J. N. (pessoa física)
BR
L. L. (pessoa física)
BR
M. L. (pessoa física)
BR
M. F. (pessoa física)
BR
R. S. (pessoa física)
BR
R. N. (pessoa física)
BR
T. C. (pessoa física)
BR
Classificação IPC
Resumo técnico
NOVA CONFIGURAÇÃO DE TRATAMENTO POR PLASMA DENOMINADO DE CILINDROS CATÓDICOS (CCy). A nova configuração de tratamento por plasma por cilindros catódicos (CCy) proposta por esta patente modifica o atual sistema de deposição por gaiola catódica (CCPD - Cathodic Cage Plasma Deposition) comumente adotado em pesquisas no campo de modificação superficial por plasma. O novo processo denominado de Deposição por Plasma com Cilindros Catódicos (CCyPD - Cathodic Cylinder Plasma Deposition) parte da fabricação de pequenos cilindros de pós-compactados que são posicionados sobre a tampa suporte da gaiola catódica. No processo de deposição, o efeito de cátodo oco ocorre no interior dos cilindros promovendo o arrancamento do material que será combinado com elementos da atmosfera gasosa e/ou depositado sobre a amostra. O CCyPD, portanto, contribui para o estudo de novos revestimentos compostos devido à possibilidade de obtenção e combinação de materiais na forma de pó antes não explorados por limitações na fabricação de gaiolas por meio dos métodos anteriormente adotados.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#3.1
17/12/2024
RPI 2815
#2.1
08/08/2023
RPI 2744
#2.10
Número de Protocolo '870230051142' em 15/06/2023 11:43 (WB)
27/06/2023
RPI 2738
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