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Dado oficial do INPI

NOVA CONFIGURAÇÃO DE TRATAMENTO POR PLASMA DENOMINADO DE CILINDROS CATÓDICOS (CCY)

PublicadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

102023011847

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

15/06/2023

Publicação

17/12/2024

Andamento no INPI

  1. Depósito15/06/23
  2. Publicação17/12/24
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido publicado na RPI em 17/12/2024 e já visível a qualquer interessado. Segue para o exame técnico do INPI.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 17/12/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

U. P. (pessoa física)

PI, BR

U. N. (pessoa física)

RN, BR

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Inventores

J. N. (pessoa física)

BR

L. L. (pessoa física)

BR

M. L. (pessoa física)

BR

M. F. (pessoa física)

BR

R. S. (pessoa física)

BR

R. N. (pessoa física)

BR

T. C. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

NOVA CONFIGURAÇÃO DE TRATAMENTO POR PLASMA DENOMINADO DE CILINDROS CATÓDICOS (CCy). A nova configuração de tratamento por plasma por cilindros catódicos (CCy) proposta por esta patente modifica o atual sistema de deposição por gaiola catódica (CCPD - Cathodic Cage Plasma Deposition) comumente adotado em pesquisas no campo de modificação superficial por plasma. O novo processo denominado de Deposição por Plasma com Cilindros Catódicos (CCyPD - Cathodic Cylinder Plasma Deposition) parte da fabricação de pequenos cilindros de pós-compactados que são posicionados sobre a tampa suporte da gaiola catódica. No processo de deposição, o efeito de cátodo oco ocorre no interior dos cilindros promovendo o arrancamento do material que será combinado com elementos da atmosfera gasosa e/ou depositado sobre a amostra. O CCyPD, portanto, contribui para o estudo de novos revestimentos compostos devido à possibilidade de obtenção e combinação de materiais na forma de pó antes não explorados por limitações na fabricação de gaiolas por meio dos métodos anteriormente adotados.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Publicação do pedido de patente

#3.1

17/12/2024

RPI 2815

Pedido de patente depositado

#2.1

08/08/2023

RPI 2744

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870230051142' em 15/06/2023 11:43 (WB)

27/06/2023

RPI 2738

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