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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO HÍBRIDO ELÉTRICO-ELETROQUÍMICO BASEADO EM HETEROJUNÇÃO DE VAN DER WAALS DE GRAFENO MONOCAMADA E FERROCENO

PublicadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Patente de Invenção DISPOSITIVO HÍBRIDO ELÉTRICO-ELETROQUÍMICO BASEADO EM HETEROJUNÇÃO DE VAN DER WAALS DE GRAFENO MONOCAMADA E FERROCENO de UNIVERSIDADE DE SÃO PAULO - USP — IPC G01N 27/327
Patente de Invenção DISPOSITIVO HÍBRIDO ELÉTRICO-ELETROQUÍMICO BASEADO EM HETEROJUNÇÃO DE VAN DER WAALS DE GRAFENO MONOCAMADA E FERROCENO de UNIVERSIDADE DE SÃO PAULO - USP — IPC G01N 27/327. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

102022006496

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

04/04/2022

Publicação

17/10/2023

Andamento no INPI

  1. Depósito04/04/22
  2. Publicação17/10/23
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido publicado na RPI em 17/10/2023 e já visível a qualquer interessado. Segue para o exame técnico do INPI.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 17/10/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

UNIVERSIDADE DE SÃO PAULO - USP

SP, BR

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Inventores

F. C. (pessoa física)

BR

I. M. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

DISPOSITIVO HÍBRIDO ELÉTRICO-ELETROQUÍMICO BASEADO EM HETEROJUNÇÃO DE VAN DER WAALS DE GRAFENO MONOCAMADA E FERROCENO. A presente invenção se refere a um dispositivo elétrico-eletroquímico vertical, denominado DEEV, que compreende uma heterojunção de van der Waals de grafeno monocamada suportado em chips de Si/SiO2 e ferroceno adsorvido sobre o grafeno (heterojunção grafeno-fc). A presente invenção tem a finalidade de permitir detecções analíticas baseadas na adsorção dos analitos-alvo na interface de grafeno a partir de variações do potencial de interface do dispositivo. O funcionamento dos DEEVs se dá a partir da conexão direta dos dois terminais por meio da heterojunção grafeno-fc (contatos elétricos), eletrodo de trabalho (WE) e contra-eletrodo (CE), em curto-circuito, cujo potencial de varredura no WE se dá em relação ao eletrodo de referência, RE, conectado em posição ortonormal ao plano basal do grafeno.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Publicação do pedido de patente

#3.1

17/10/2023

RPI 2754

Pedido de patente depositado

#2.1

03/05/2022

RPI 2678

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870220028963' em 04/04/2022 17:14 (WB)

12/04/2022

RPI 2675

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