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Dado oficial do INPI

MÉTODO E SISTEMA DE DETECÇÃO ELETROQUÍMICA DE COMPOSTOS ORGÂNICOS VOLÁTEIS E GASES INORGÂNICOS COMPREENDENDO ELETRODO-MEMBRANA SEMIPERMEÁVEL E PROCESSO DE FABRICAÇÃO DO MESMO

PublicadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

102021016395

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

18/08/2021

Publicação

28/02/2023

Andamento no INPI

  1. Depósito18/08/21
  2. Publicação28/02/23
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido publicado na RPI em 28/02/2023 e já visível a qualquer interessado. Segue para o exame técnico do INPI.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 28/02/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

CNPEM - CENTRO NACIONAL DE PESQUISA EM ENERGIA E MATERIAIS

SP, BR

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Inventores

A. G. (pessoa física)

BR

G. G. (pessoa física)

BR

R. L. (pessoa física)

BR

V. F. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Resumo técnico

MÉTODO E SISTEMA DE DETECÇÃO ELETROQUÍMICA DE COMPOSTOS ORGÂNICOS VOLÁTEIS E GASES INORGÂNICOS COMPREENDENDO ELETRODO-MEMBRANA SEMIPERMEÁVEL E PROCESSO DE FABRICAÇÃO DO MESMO. A presente descrição se refere a um método e sistema de detecção eletroquímica de gases inorgânicos e compostos orgânicos voláteis, compreendendo pelo menos um eletrodo-membrana semipermeável (1) metálico, em que uma de suas superfícies é exposta a um analito selecionado do grupo que compreende gases inorgânicos e vapores de compostos orgânicos voláteis, enquanto a outra superfície está em contato com uma solução receptora eletrolítica (2). O eletrodo-membrana semipermeável (1) permite a difusão dos analitos através da membrana, enquanto é impermeável a solução receptora elertolítica (2), servindo de eletrodo de trabalho para detecção eletroquímica dos componentes do analito. Também é descrito o processo de fabricação de tais eletrodos-membranas semipermeáveis (1), que pode ser baseado numa tela microporosa de Ni ou de aço inoxidável, podendo ser revestida de Au e apresentar modificação superficial por sais metálicos, preferencialmente modificada por sais de níquel formando uma camada superficial de Ni(OH)2.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Publicação do pedido de patente

#3.1

28/02/2023

RPI 2721

Pedido de patente depositado

#2.1

09/11/2021

RPI 2653

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870210076007' em 18/08/2021 23:40 (WB)

31/08/2021

RPI 2643

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