Publicação do pedido de patente
#3.1
11/10/2022
RPI 2701
Dados do pedido
Número
102021006507Tipo
Depósito
Publicação
Pedido publicado na RPI em 11/10/2022 e já visível a qualquer interessado. Segue para o exame técnico do INPI.
Última movimentação publicada pelo INPI: 11/10/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
U. S. (pessoa física)
RS, BR
Inventores
A. A. (pessoa física)
BR
F. B. (pessoa física)
BR
Classificação IPC
Resumo técnico
SISTEMA E APARATO DE OBTENÇÃO DE NANOPARTÍCULAS DE ÓXIDOS POR EVAPORAÇÃO À BAIXO VÁCUO E BAIXA TEMPERATURA. O presente pedido de patente refere-se a um sistema e aparato, em escala laboratorial, destinado a produzir nanopartículas de óxidos de alta pureza na forma de pó. O aparato proposto nesta invenção surge da necessidade de produzir nanopartículas de óxidos de maneira rápida e barata em nível de laboratório. Seu princípio de funcionamento baseia-se na teoria de que, em um sistema fechado, em baixa pressão é possível aumentar a quantidade de moléculas de um líquido no estado vapor através da diminuição da temperatura de ebulição deste líquido. A baixa pressão pode ser associada ao aumento da temperatura do líquido a fim de aumentar ainda mais a quantidade de vapor presente no sistema. Assim, no estado vapor, os compostos precursores são aspergidos por diferença de pressão entre uma câmara pré-aquecida e o recipiente em que se encontram. Dentro da câmara aquecida há a formação de nanopartículas de óxidos através da reação entre os precursores ainda na forma de gotículas que se deposita na forma de pó no interior da câmara. Tipicamente, a pressão de vácuo utilizada é de no máximo 1 atm e a temperatura na câmara é de no máximo 200°C. Com a utilização deste equipamento foi possível obter, por exemplo, partículas esféricas de dióxido de titânio de no máximo 200 nm de diâmetro.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#3.1
11/10/2022
RPI 2701
#2.1
15/06/2021
RPI 2632
#2.10
Número de Protocolo '870210031222' em 05/04/2021 17:27 (WB)
20/04/2021
RPI 2624
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