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Dado oficial do INPI

SISTEMA E APARATO DE OBTENÇÃO DE NANOPARTÍCULAS DE ÓXIDOS POR EVAPORAÇÃO À BAIXO VÁCUO E BAIXA TEMPERATURA

PublicadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

102021006507

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

05/04/2021

Publicação

11/10/2022

Andamento no INPI

  1. Depósito05/04/21
  2. Publicação11/10/22
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido publicado na RPI em 11/10/2022 e já visível a qualquer interessado. Segue para o exame técnico do INPI.

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Depositantes e inventores

Depositantes

U. S. (pessoa física)

RS, BR

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Inventores

A. A. (pessoa física)

BR

F. B. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

SISTEMA E APARATO DE OBTENÇÃO DE NANOPARTÍCULAS DE ÓXIDOS POR EVAPORAÇÃO À BAIXO VÁCUO E BAIXA TEMPERATURA. O presente pedido de patente refere-se a um sistema e aparato, em escala laboratorial, destinado a produzir nanopartículas de óxidos de alta pureza na forma de pó. O aparato proposto nesta invenção surge da necessidade de produzir nanopartículas de óxidos de maneira rápida e barata em nível de laboratório. Seu princípio de funcionamento baseia-se na teoria de que, em um sistema fechado, em baixa pressão é possível aumentar a quantidade de moléculas de um líquido no estado vapor através da diminuição da temperatura de ebulição deste líquido. A baixa pressão pode ser associada ao aumento da temperatura do líquido a fim de aumentar ainda mais a quantidade de vapor presente no sistema. Assim, no estado vapor, os compostos precursores são aspergidos por diferença de pressão entre uma câmara pré-aquecida e o recipiente em que se encontram. Dentro da câmara aquecida há a formação de nanopartículas de óxidos através da reação entre os precursores ainda na forma de gotículas que se deposita na forma de pó no interior da câmara. Tipicamente, a pressão de vácuo utilizada é de no máximo 1 atm e a temperatura na câmara é de no máximo 200°C. Com a utilização deste equipamento foi possível obter, por exemplo, partículas esféricas de dióxido de titânio de no máximo 200 nm de diâmetro.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Publicação do pedido de patente

#3.1

11/10/2022

RPI 2701

Pedido de patente depositado

#2.1

15/06/2021

RPI 2632

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870210031222' em 05/04/2021 17:27 (WB)

20/04/2021

RPI 2624

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