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Dado oficial do INPI

MÉTODO DE PRODUÇÃO DE COMPÓSITOS ADSORVENTES BASEADOS EM SÍLICA E QUITOSANA E APLICAÇÃO DOS MESMOS

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Patente de Invenção MÉTODO DE PRODUÇÃO DE COMPÓSITOS ADSORVENTES BASEADOS EM SÍLICA E QUITOSANA E APLICAÇÃO DOS MESMOS de FUNDAÇÃO UNIVERSIDADE DE PASSO FUNDO — IPC B01J 20/24
Patente de Invenção MÉTODO DE PRODUÇÃO DE COMPÓSITOS ADSORVENTES BASEADOS EM SÍLICA E QUITOSANA E APLICAÇÃO DOS MESMOS de FUNDAÇÃO UNIVERSIDADE DE PASSO FUNDO — IPC B01J 20/24. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

102021003029

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

18/02/2021

Publicação

30/08/2022

Andamento no INPI

  1. Depósito18/02/21
  2. Publicação30/08/22
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 18/02/2021, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 12/11/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

FUNDAÇÃO UNIVERSIDADE DE PASSO FUNDO

RS, BR

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Inventores

J. P. (pessoa física)

BR

J. M. (pessoa física)

BR

T. M. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Resumo técnico

MÉTODO DE PRODUÇÃO DE COMPÓSITOS ADSORVENTES BASEADOS EM SÍLICA E QUITOSANA E APLICAÇÃO DOS MESMOS. Esta patente refere-se ao campo técnico da síntese de compósitos adsorventes, especificamente compósitos a base de sílica e quitosana, e revela método de produção de compósitos compreendendo altos teores de sílica com elevadas áreas superficiais e resistências química e mecânica. Além disso, é também objeto de interesse a aplicação dos adsorventes produzidos na remoção de contaminantes em águas. O método envolve a pré-hidrólise do TEOS e dissolução da quitosana em ácido acético 2%, seguido da mistura de ambos os componentes para término da hidrólise, onde as concentrações das soluções de quitosana e TEOS são definidas de modo que se obtenham relações mássicas na proporção 1:1 até 3:1 de sílica (SiO2) para quitosana, respectivamente. A etapa de policondensação dos compósitos ocorre mediante a atomização da mistura de TEOS e quitosana sobre uma solução de hidróxido de amônio, ocorrendo então a reação súbita de policondensação dos componentes na superfície da solução de hidróxido de amônio e evitando a precipitação dos componentes em pH básico e separação de fases.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

O pedido de exame para esse pedido, de acordo com o art. 33 da LPI, possuía prazo para ser requerido até 19/02/2024. Na RPI 2773 de 27/02/2024 foi publicado o despacho 11.1 de arquivamento de acordo com o art. 33 da LPI. O pagamento da solicitação de desarquivamento e do pedido de exame, de acordo com o parágrafo único do art. 33 da LPI, art. 4º da Portaria INPI/PR n° 302 de 12/08/2020 e caput do despacho 11.1 publicado na RPI, possuía prazo para ser requerida até 29/04/2024. Observa-se que a Portaria INPI/PR nº 19, de 06 de maio de 2024, devolveu o prazo até 01/11/2024 para o requerente e/ou representante legal residente no Rio Grande do Sul e que possuía prazo para efetuar algum ato no INPI entre 24/04/2024 a 28/10/2024. Não houve manifestação referente ao pedido de exame e pedido de desarquivamento até o prazo estendido. Dessa forma considera-se o pedido de exame inexistente, sendo que o cumprimento da exigência estipulada no caput da publicação do despacho 11.1 na RPI não foi atendido. Observa-se que não constam esclarecimentos ou pedidos de devolução de prazo apresentados até o momento.

12/11/2024

RPI 2810

11.14

Anulada a publicação código 11.1.1 na RPI nº 2794 de 23/07/2024 por ter sido indevida.

06/08/2024

RPI 2796

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

23/07/2024

RPI 2794

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

27/02/2024

RPI 2773

Publicação do pedido de patente

#3.1

30/08/2022

RPI 2695

Pedido de patente depositado

#2.1

11/05/2021

RPI 2627

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870210016228' em 18/02/2021 17:34 (WB)

02/03/2021

RPI 2617

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