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Dado oficial do INPI

POLIMERIZAÇÃO IN SITU LIVRE DE SOLVENTES PARA A OBTENÇÃO DE NANOCOMPÓSITOS TERMOESTÁVEIS DE HIDRÓXIDOS DUPLOS LAMELARES E POLÍMERO COM APLICAÇÃO FARMACÊUTICA

Concessão AnuladaPatente de Invenção

Dados do pedido

Patente de Invenção POLIMERIZAÇÃO IN SITU LIVRE DE SOLVENTES PARA A OBTENÇÃO DE NANOCOMPÓSITOS TERMOESTÁVEIS DE HIDRÓXIDOS DUPLOS LAMELARES E POLÍMERO COM APLICAÇÃO FARMACÊUTICA — IPC B82Y 40/00
Patente de Invenção POLIMERIZAÇÃO IN SITU LIVRE DE SOLVENTES PARA A OBTENÇÃO DE NANOCOMPÓSITOS TERMOESTÁVEIS DE HIDRÓXIDOS DUPLOS LAMELARES E POLÍMERO COM APLICAÇÃO FARMACÊUTICA — IPC B82Y 40/00. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

102020013250

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

26/06/2020

Publicação

11/01/2022

Andamento no INPI

  1. Depósito26/06/20
  2. Publicação11/01/22
  3. Exame
  4. Deferimento17/03/26
  5. Concessão07/04/26
  6. Em vigor26/06/40

Patente concedida em 07/04/2026 e em vigor até 26/06/2040. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:26/06/2040

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Depositantes e inventores

Depositantes

U. P. (pessoa física)

PE, BR

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Inventores

A. L. (pessoa física)

BR

J. O. (pessoa física)

BR

J. S. (pessoa física)

BR

K. A. (pessoa física)

BR

L. S. (pessoa física)

BR

M. S. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Resumo técnico

POLIMERIZAÇÃO IN SITU LIVRE DE SOLVENTES PARA A OBTENÇÃO DE NANOCOMPÓSITOS TERMOESTÁVEIS DE HIDRÓXIDOS DUPLOS LAMELARES E POLÍMERO COM APLICAÇÃO FARMACÊUTICA. A presente patente de invenção descreve a síntese de nanocompósitos duplos de hidróxidos e polimetilmetacrilato (PMMA-HDL) por polimerização a granel. A síntese envolve uma polimerização in situ, com iniciação radicalar, sem organofilização do HDL e sem o uso de solventes. Os dados de ICP-OES mostram uma relação M2+ / M3+ de 1,68 para Mg2Al e 2,26 para Zn2Al. Os dados de difração de raios X indicam a formação de nanocompósitos (d = 35Å), sugerindo que a reação ocorre em um microambiente formado nos domínios intercalares do HDL. As imagens AFM confirmam a esfoliação do HDL nas camadas espessas de 80-120 nm e 50-150 nm para as Zn: PMMA e Mg: PMMA, respectivamente. Os espectros de FTIR mostram a presença do grupo éster em 1723 cm-1 e 1143 cm-1 correspondente ao PMMA, comprovando sua formação durante a polimerização in situ na presença de HDL. A Análise de Componentes Principais (PCA) mostrou a formação de grupos distintos no PC2 para nanocompósitos com proporções 1 e 2% com significância de 12% e 39%, atribuídos ao tipo de cátion divalente utilizado, zinco ou magnésio. Os dados de termogravimetria, calorimetria diferencial de varredura e energia de ativação comprovam a estabilidade térmica de compósitos em relação ao homopolímero de PMMA para o primeiro estágio da decomposição e permanência do mecanismo de decomposição e confirmam a esfoliação dos nanocompósitos. Usando esses métodos analíticos, observa-se que os compósitos sintetizados são termicamente estáveis e, portanto, adequados para uma ampla gama de aplicações, como revestimentos matriciais, reforços estruturais, sistemas de liberação de biomoléculas e materiais de embalagem para alimentos, bebidas, e indústrias farmacêuticas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

16.3

Ref. RPI 2883 de 07/04/2026 quanto ao título.

22/04/2026

RPI 2885

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 26/06/2020, observadas as condições legais

07/04/2026

RPI 2883

Deferimento

#9.1

17/03/2026

RPI 2880

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

09/12/2025

RPI 2866

8.7

14/05/2024

RPI 2784

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 4ª anuidade.

16/04/2024

RPI 2780

8.7

27/02/2024

RPI 2773

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª anuidade.

10/10/2023

RPI 2753

Desarquivamento

#4.3

03/10/2023

RPI 2752

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

25/07/2023

RPI 2742

Publicação do pedido de patente

#3.1

11/01/2022

RPI 2662

Pedido de patente depositado

#2.1

27/10/2020

RPI 2599

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

24/09/2020

RPI 2594

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870200080210' em 26/06/2020 22:19 (WB)

07/07/2020

RPI 2583

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