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Dado oficial do INPI

PRODUÇÃO DE ÂNODOS CERÂMICOS ATIVOS UTILIZANDO ESCÓRIA SIDERÚRGICA DE ALTO FORNO COMO MATÉRIA-PRIMA

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

102020007797

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

18/04/2020

Publicação

03/11/2021

Andamento no INPI

  1. Depósito18/04/20
  2. Publicação03/11/21
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 20/05/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

UNIVERSIDADE FEDERAL DO CARIRI (UFCA)

CE, BR

Inventores

D. S. (pessoa física)

BR

F. S. (pessoa física)

BR

T. O. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Resumo técnico

PRODUÇÃO DE ÂNODOS CERÂMICOS ATIVOS UTILIZANDO ESCÓRIA SIDERÚRGICA DE ALTO FORNO COMO MATÉRIA-PRIMA.Sabendo que a escória de alto forno é uma importante fonte de óxidos de metais de transição capazes de catalisar a reação de evolução do oxigênio, a presente invenção refere-se à utilização deste coproduto siderúrgico como matéria-prima para a produção de ânodos cerâmicos ativos. Devido à sua natureza isolante, o material foi utilizado na forma de compósitos com carbono grafite, permitindo agregar propriedades mecânicas e elétricas não encontradas em seus constituintes isolados, principalmente após a etapa de sinterização. Sob condições operacionais e experimentais otimizadas, o ânodo cerâmico então desenvolvido apresentou alta eficiência para degradar o azo-corante amarelo de tartrazina (redução de 95,7% da concentração do carbono orgânico total em 120 min de eletrólise), cuja molécula vem sendo utilizada como modelo para testar a performance de materiais semicondutores em Processos Eletroquímicos de Oxidação Avançada. O protocolo de tratamento proposto é ambientalmente correto, não dispendioso ou laborioso, tornando-se altamente atrativo para o tratamento de poluentes orgânicos em escala industrial.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

15.22.1

Negada a solicitação de devolução de prazo requerida através da petição nº 870250027572 de 07/04/2025, uma vez que as alegações feitas pelo requerente não se configuram como justa causa, conforme definida no Artigo 221 da LPI 9279/96 e no Artigo 2º da Portaria/INPI/PR nº 049 de 03.12.2021. A cópia do parecer poderá ser obtida através do endereço eletrônico: www.inpi.gov.br - No acesso rápido => Busca de processos => Faça login com senha ou tecle Continuar => Patente => Digite o número do processo => Pesquisar. Para acessar, cadastre-se no portal do INPI. Desta data corre o prazo de 60 (sessenta) dias para eventual recurso do interessado.

20/05/2025

RPI 2837

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2730 de 02/05/2023 e considerando ausência de manifestação do depositante dentro do prazo estipulado no despacho 15.22 (publicado na RPI 2816), informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 17, da Portaria 52/2023.

18/03/2025

RPI 2828

8.8

Anulada a publicação código 8.11 na RPI nº 2746 de 22/08/2023 em virtude do despacho de devolução de prazo 15.22 publicado na RPI 2816, de 24/12/2024, concedendo 30 dias para que o depositante recolha a taxa de restauração (GRU cód. 208) e a 3ª anuidade (GRU cód. 221), sob pena de arquivamento definitivo do pedido de patente.

31/12/2024

RPI 2817

Anulação de publicação (variante)

#15.22

Referente à Petição nº 870240100693 de 26/11/2024 - reconhecida a justa causa, conforme previsto no Artigo 221 da LPI9279/96, esta Coordenação atende à solicitação do requerente, concedendo-lhe o prazo adicional de 30 (trinta) dias, contados da data desta publicação

24/12/2024

RPI 2816

Anulação de publicação (variante)

#15.22

Referente à petição nº 870230093695 de 23.10.2023 ? Reconhecida a justa causa, de acordo com o Artigo 221 da LPI 9279/96 e o Artigo 2º da Portaria/INPI/PR nº 049 de 03.12.2021, será concedido ao requerente o prazo o prazo adicional de 30 (trinta) dias, contados da data desta publicação para o pagamento da 3ª anuidade no prazo extraordinário juntamente com o pagamento da taxa de restauração.

21/05/2024

RPI 2785

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2730 de 02-05-2023 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

22/08/2023

RPI 2746

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª anuidade.

02/05/2023

RPI 2730

Publicação do pedido de patente

#3.1

03/11/2021

RPI 2652

Pedido de patente depositado

#2.1

15/09/2020

RPI 2593

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

28/07/2020

RPI 2586

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870200048868' em 18/04/2020 10:45 (WB)

28/04/2020

RPI 2573

Monitoramento de patentes

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