Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 29/01/2020, observadas as condições legais
23/06/2026
RPI 2894
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Dado oficial do INPI
PROCESSO DE PRODUÇÃO DE NANOPLACAS DE TIO2 ANATASE COM FACES {001} EXPOSTAS LIVRE DE FLÚOR
ConcedidaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
102020001941Tipo
Patente de Invenção
Depósito
29/01/2020
Publicação
10/08/2021
Andamento no INPI
- Depósito29/01/20
- Publicação10/08/21
- Exame
- Deferimento02/06/26
- Concessão23/06/26
- Em vigor29/01/40
Patente concedida em 23/06/2026 e em vigor até 29/01/2040. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:29/01/2040
Última movimentação publicada pelo INPI: 23/06/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
INSTITUTO DE TECNOLOGIA E PESQUISA
SE, BR
U. T. (pessoa física)
SE, BR
Inventores
A. M. (pessoa física)
BR
L. F. (pessoa física)
BR
R. F. (pessoa física)
BR
Dados técnicos
Classificação IPC
Resumo técnico
PROCESSO DE PRODUÇÃO DE NANOPLACAS DE TIO2 ANATASE COM FACES {001} EXPOSTAS LIVRE DE FLÚOR. A presente patente de invenção refere-se a um processo para fabricação de TiO2 anatase com faces {001} expostas, em especial cristais em forma de nanoplacas. Mais especificamente, a presente invenção se refere a um processo para produção de nanoplacas de TiO2 anatase com faces {001} expostas e alta área superficial, sem a presença de substâncias derivadas de flúor. O dito processo melhora a sua eficiência, eliminando o risco à saúde e reduzindo o impacto ambiental decorrente do processo de fabricação em relação aos processos similares existentes, e, diante disso possui aplicação direta nas áreas de produção de células solares sensibilizadas por corantes, degradação fotocatalítica de poluentes orgânicos, produção de hidrogênio, sensores de gás, baterias de íons de lítio, produção de bloqueadores solar e outros campos relacionados com saúde, cosmética, meio ambiente e energia.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Deferimento
#9.1
02/06/2026
RPI 2891
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
07/04/2026
RPI 2883
Publicação do pedido de patente
#3.1
10/08/2021
RPI 2640
Pedido de patente depositado
#2.1
26/05/2020
RPI 2577
Exigência - art. 21 da LPI
#2.5
12/05/2020
RPI 2575
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo '870200013973' em 29/01/2020 16:08 (WB)
11/02/2020
RPI 2562
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