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Dado oficial do INPI

PELÍCULA PARA CÉLULA FOTOVOLTAICA, MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE UMA PELÍCULA PARA CÉLULA FOTOVOLTAICA, CÉLULA FOTOVOLTAICA E MÓDULO FOTOVOLTAICO

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Patente de Invenção PELÍCULA PARA CÉLULA FOTOVOLTAICA, MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE UMA PELÍCULA PARA CÉLULA FOTOVOLTAICA, CÉLULA FOTOVOLTAICA E MÓDULO FOTOVOLTAICO de ARMOR — IPC H01L 31/0216
Patente de Invenção PELÍCULA PARA CÉLULA FOTOVOLTAICA, MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE UMA PELÍCULA PARA CÉLULA FOTOVOLTAICA, CÉLULA FOTOVOLTAICA E MÓDULO FOTOVOLTAICO de ARMOR — IPC H01L 31/0216. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

102019011998

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

12/06/2019

Publicação

17/12/2019

Andamento no INPI

  1. Depósito12/06/19
  2. Publicação17/12/19
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 27/12/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

ARMOR

FR

C. S. (pessoa física)

FR

INSTITUT POLYTECHNIQUE DE BORDEAUX

FR

U. B. (pessoa física)

FR

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

U. V. (pessoa física)

FR

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

FR

18 55178 · 13/06/2018

Resumo técnico

PELÍCULA PARA CÉLULA FOTOVOLTAICA, MÉTODO PARA APRODUÇÃO DE UMA PELÍCULA PARA CÉLULA FOTOVOLTAICA,CÉLULA FOTOVOLTAICA E MÓDULO FOTOVOLTAICO A presente invenção refere-se a uma película (24) para uma célula fotovoltaica (8) compreendendo pelo menos um óxido de metal e pelo menos um aditivo. O óxido de metal tem uma banda de condução com um nível mínimo de energia. O aditivo é selecionado a partir do grupo que consiste em hidróxidos alcalinos, hidróxidos alcalino-terrosos, materiais semicondutores que têm um orbital molecular ocupado mais alto com um nível de energia com um valor absoluto inferior ao valor absoluto do nível mínimo de energia da banda de condução do óxidos de metal e materiais de dopagem do tipo n com uma energia de ionização inferior ao valor absoluto do nível mínimo de energia da banda de condução do óxido de metal.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2697 de 13/09/2022.

27/12/2022

RPI 2712

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª anuidade.

13/09/2022

RPI 2697

Publicação do pedido de patente

#3.1

17/12/2019

RPI 2554

Pedido de patente depositado

#2.1

10/09/2019

RPI 2540

Publicação anulada

#2.6

Anulada a publicação código 2.5 na RPI nº 2535 de 06/08/2019 por ter sido indevida.

03/09/2019

RPI 2539

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

06/08/2019

RPI 2535

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870190054106' em 12/06/2019 15:40 (WB)

18/06/2019

RPI 2528

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