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Dado oficial do INPI

PROCESSO DE DOPAGEM COM ENXOFRE DE FILMES DE DIÓXIDO DE TITÂNIO

ConcedidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Patente de Invenção PROCESSO DE DOPAGEM COM ENXOFRE DE FILMES DE DIÓXIDO DE TITÂNIO — IPC C01G 23/047
Patente de Invenção PROCESSO DE DOPAGEM COM ENXOFRE DE FILMES DE DIÓXIDO DE TITÂNIO — IPC C01G 23/047. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

102019011218

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

30/05/2019

Publicação

08/12/2020

Andamento no INPI

  1. Depósito30/05/19
  2. Publicação08/12/20
  3. Exame
  4. Deferimento28/10/25
  5. Concessão30/12/25
  6. Em vigor30/05/39

Patente concedida em 30/12/2025 e em vigor até 30/05/2039. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:30/05/2039

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Última movimentação publicada pelo INPI: 30/12/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

C. N. (pessoa física)

RJ, BR

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Inventores

M. P. (pessoa física)

BR

O. C. (pessoa física)

BR

R. B. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

PROCESSO DE DOPAGEM COM ENXOFRE DE FILMES DEDIÓXIDO DE TITÂNIO. A presente invenção refere-se a um processo de dopagem de filmes de dióxido de titânio com enxofre em baixas temperaturas, a partir de um processo similar ao utilizado pela indústria para a remoção do enxofre no composto sulfeto de hidrogênio (dessulfurização). Os filmes, suportados em lâminas de borossilicato de baixo custo, são obtidos pelo método de deposição química de organometálicos em fase vapor a 400 °C. Subsequentemente, a dopagem dos catalisadores com enxofre é realizada em atmosfera de H2/2%v. H2S, entre as temperaturas de 25 °C a 150 °C. Os materiais obtidos são aplicados como fotocatalisadores em processos oxidativos para o tratamento e purificação da água, pela mineralização de contaminantes orgânicos sob irradiação de luz solar ou, inclusive, lâmpadas com o comprimento de onda adequado.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 30/05/2019, observadas as condições legais

30/12/2025

RPI 2869

Deferimento

#9.1

28/10/2025

RPI 2860

Publicação do pedido de patente

#3.1

08/12/2020

RPI 2605

Pedido de patente depositado

#2.1

20/08/2019

RPI 2537

15.30

Anulada a publicação código 15.21 na RPI nº 2530 de 02/07/2019 por ter sido indevida.

13/08/2019

RPI 2536

Anulação de numeração

#15.21

Pedido com Numeração Anulada tendo em vista falta de pagamento ou pagamento posterior à data de protocolo da Guia de Recolhimento da União relativa ao serviço solicitado

02/07/2019

RPI 2530

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870190051001' em 30/05/2019 18:19 (WB)

11/06/2019

RPI 2527

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