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Dado oficial do INPI

SISTEMA DE REGENERAÇÃO DE DESSECANTE LÍQUIDO ELETROQUÍMICO

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Patente de Invenção SISTEMA DE REGENERAÇÃO DE DESSECANTE LÍQUIDO ELETROQUÍMICO — IPC B01D 61/42
Patente de Invenção SISTEMA DE REGENERAÇÃO DE DESSECANTE LÍQUIDO ELETROQUÍMICO — IPC B01D 61/42. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

102019002402

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

06/02/2019

Publicação

18/02/2020

Andamento no INPI

  1. Depósito06/02/19
  2. Publicação18/02/20
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 18/03/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

P. I. (pessoa física)

US

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Inventores

E. K. (pessoa física)

US

E. B. (pessoa física)

US

J. R. (pessoa física)

US

M. B. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

16/200,309 · 26/11/2018

US

62/627,449 · 07/02/2018

US

62/628,573 · 09/02/2018

Resumo técnico

SISTEMA DE REGENERAÇÃO DE DESSECANTE LÍQUIDO ELETROQUÍMICO. Trata-se de um sistema de regeneração de dessecante líquido que compreende um aparelho de eletrodiálise que tem um primeiro e um segundo reservatórios, em que a concentração de uma solução de entrada no primeiro reservatório aumenta para uma concentração limite, e a concentração da solução de entrada diminui no segundo reservatório durante um modo de operação. Uma primeira câmara eletrolítica redox ativa compreende um primeiro eletrodo e uma primeira solução de um material eletrolítico redox ativo e tem uma reação redox reversível com o primeiro material eletrolítico para conduzir um íon para o primeiro reservatório. Uma segunda câmara eletrolítica redox ativa compreende um segundo eletrodo e uma segunda solução de um material eletrolítico redox ativo e tem uma reação redox reversível com o segundo material eletrolítico para aceitar um íon do segundo reservatório. Um primeiro tipo de membrana é disposto entre o primeiro e o segundo reservatórios, e um segundo tipo de membrana, diferente do primeiro, é disposto entre as respectivas câmaras e reservatórios de eletrodos.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2813 de 03-12-2024 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

18/03/2025

RPI 2828

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 6ª anuidade.

03/12/2024

RPI 2813

Retificação de publicação

#3.8

Referente à RPI 2563 de 18/02/2020, quanto ao item (30).

18/04/2023

RPI 2728

Parecer de pré-exame

#6.23

06/12/2022

RPI 2709

Publicação do pedido de patente

#3.1

18/02/2020

RPI 2563

Pedido de patente depositado

#2.1

17/12/2019

RPI 2554

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

26/02/2019

RPI 2512

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870190012348' em 06/02/2019 14:24 (WB)

12/02/2019

RPI 2510

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