Patente de Invenção MÉTODO DE FORMAÇÃO DE FILME PARA FILME METÁLICO E APARELHO DE FORMAÇÃO DE FILME PARA FILME METÁLICO — IPC C25D 17/00. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.
A presente invenção refere-se a uma membrana de eletrólito sólido (13) que é disposta entre um anodo (11) e um substrato (W), e tensão é aplicada entre o anodo (11) e o substrato (W) enquanto a membrana de eletrólito sólido (13) é prensada no substrato (W) de modo a formar um filme metálico (F) no substrato (W). Neste método de formação de filme, é usada a membrana de eletrólito sólido (13) que inclui: uma primeira parte (13a) feita de um material permeável a íons; e uma segunda parte (13b) feita de um material tendo uma propriedade de isolamento elétrico e tendo uma permeabilidade baixa de íons metálicos, a segunda parte (13b) sendo embutida na primeira parte (13a) de modo a ser exposta a partir de uma superfície da membrana de eletrólito sólido (13), a superfície da membrana de eletrólito sólido (13) voltada para o substrato (W).
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
27/09/2022
RPI 2699
Parecer de pré-exame
#6.23
21/06/2022
RPI 2685
Publicação do pedido de patente
#3.1
16/04/2019
RPI 2519
Pedido de patente depositado
#2.1
04/12/2018
RPI 2500
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo '870180135500' em 27/09/2018 19:33 (WB)
