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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO DE AQUECIMENTO E CONTROLE DE TEMPERATURA PARA MICROREATORES

IndeferidaPatente de InvençãoDocumento oficial disponível

Dados do pedido

Patente de Invenção DISPOSITIVO DE AQUECIMENTO E CONTROLE DE TEMPERATURA PARA MICROREATORES — IPC B01L 7/00
Patente de Invenção DISPOSITIVO DE AQUECIMENTO E CONTROLE DE TEMPERATURA PARA MICROREATORES — IPC B01L 7/00. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

102017023705

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

03/11/2017

Publicação

04/06/2019

Carta-patente disponível

Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.

Acessar documento

Andamento no INPI

Em recurso
  1. Depósito03/11/17
  2. Publicação04/06/19
  3. Exame
  4. Indeferido02/01/24
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido indeferido pelo INPI em 02/01/2024. A invenção não chegou a ser patenteada.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 02/01/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

C. N. (pessoa física)

RJ, BR

FUNDAÇÃO DE AMPARO À PESQUISA DO ESTADO DE SÃO PAULO - FAPESP

SP, BR

INSTITUTO FEDERAL DE EDUCAÇÃO, CIÊNCIA E TECNOLOGIA DE SÃO PAULO

SP, BR

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Inventores

C. H. (pessoa física)

BR

L. S. (pessoa física)

BR

N. J. (pessoa física)

BR

R. S. (pessoa física)

BR

W. R. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

DISPOSITIVO DE AQUECIMENTO E CONTROLE DE TEMPERATURA PARA MICROREATORES. O presente pedido de patente refere-se ao conjunto de sistemas e componentes e ao funcionamento de um dispositivo para aquecimento e controle de temperatura em microrreatores utilizados em circuitos microfluídicos. O referido dispositivo é composto de um circuito microfluídico (1) contendo um microrreator (2), uma lâmina metálica ou de semicondutor (3), fonte de luz (4) com sistema de focalização (5), sensor de temperatura (6) e sistema de realimentação (7) que controla a temperatura do líquido dentro de (2) e a potência de (4). Lâminas finas de qualquer material metálico ou semicondutor (3) são usinadas com pulsos laser ultracurtos, de maneira a produzir uma de suas superfícies com estruturas submicrométricas altamente absorvedoras de luz, denominada superfície texturizada (8). Estas lâminas são colocadas no fundo do microrreator onde se deseja aquecer e controlar a temperatura de líquidos em regimes estacionários ou em movimento. O feixe de luz é focalizado sobre a superfície texturizada, que deve estar voltada para a superfície do fundo do microrreator. A fonte do feixe de luz deve ter potência adequada para se atingir a temperatura desejada e um espectro com alta transmissão para o material da região do circuito por onde deve se propagar até atingir a superfície texturizada.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Indeferimento

#9.2

02/01/2024

RPI 2765

8.7

10/10/2023

RPI 2753

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 6ª anuidade.

29/08/2023

RPI 2747

6.7

08/08/2023

RPI 2744

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

06/06/2023

RPI 2735

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

24/01/2023

RPI 2716

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

27/10/2020

RPI 2599

Publicação do pedido de patente

#3.1

04/06/2019

RPI 2526

Pedido de patente depositado

#2.1

03/07/2018

RPI 2478

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

17/04/2018

RPI 2467

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '020170003548' em 03/11/2017 10:10 (RJ)

06/02/2018

RPI 2457

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