Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 03/10/2017, observadas as condições legais
27/06/2023
RPI 2738
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Dado oficial do INPI
MÉTODO E APARELHO PARA EXECUTAR UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE VAPOR QUÍMICO PLASMÁTICO
ConcedidaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
102017021249Tipo
Patente de Invenção
Depósito
03/10/2017
Publicação
02/05/2018
Andamento no INPI
- Depósito03/10/17
- Publicação02/05/18
- Exame
- Deferimento09/05/23
- Concessão27/06/23
- Em vigor03/10/37
Patente concedida em 27/06/2023 e em vigor até 03/10/2037. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:03/10/2037
Última movimentação publicada pelo INPI: 27/06/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
DRAKA COMTEQ B.V.
NL
Inventores
G. K. (pessoa física)
NL
I. M. (pessoa física)
NL
M. S. (pessoa física)
NL
T. B. (pessoa física)
NL
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
NL
NL 2017575 · 04/10/2016
Resumo técnico
MÉTODO E APARELHO PARA EXECUTAR UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE VAPOR QUÍMICO PLASMÁTICO . A invenção refere-se a um método e a um aparelho para executar um processo de deposição de vapor químico plasmático. O aparelho compreende um ressonador principalmente cilíndrico provido de uma parede cilíndrica externa e uma parede cilíndrica coaxial interna, definindo, entre elas, uma cavidade ressonante que é operável a uma frequência operacional. A cavidade ressonante se estende em uma direção circunferencial em torno de um eixo cilíndrico das paredes cilíndricas interna e externa. Além disso, a parede cilíndrica externa inclui uma porta de entrada conectável a um guia de onda de entrada. Além disso, a parede cilíndrica interna inclui seções de fenda que se prolongam em uma direção circunferencial em torno do eixo cilíndrico. Uma maior dimensão que define a abertura das seções de fenda é menor do que a metade do comprimento de onda da frequência operacional.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Deferimento
#9.1
09/05/2023
RPI 2731
Parecer de pré-exame
#6.23
20/04/2021
RPI 2624
Publicação do pedido de patente
#3.1
02/05/2018
RPI 2469
Pedido de patente depositado
#2.1
03/04/2018
RPI 2465
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo '870170074879' em 03/10/2017 16:06 (WB)
31/10/2017
RPI 2443
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