Indeferimento
#9.2
25/06/2024
RPI 2790
Dados do pedido
Número
102017016231Tipo
Depósito
Publicação
Pedido indeferido pelo INPI em 25/06/2024. A invenção não chegou a ser patenteada.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 25/06/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
U. N. (pessoa física)
RN, BR
Inventores
A. S. (pessoa física)
BR
C. F. (pessoa física)
BR
N. C. (pessoa física)
BR
U. S. (pessoa física)
BR
Classificação IPC
Resumo técnico
Refere-se esta patente de invenção ao processo de fabricação de alvo para sistema sputtering, a partir da recuperação do pó policristalino de telureto de bismuto, em que este é submetido à compactação em matriz à alta pressão e à temperatura ambiente, sem passar por processo de aquecimento, o que gera como resultado uma peça sólida coesa e sinterizada, de ligação intragranular homogênea, que mantém a sua composição estequiométrica e cristalinidade. A peça final se destina ao uso como alvo em sistemas sputtering.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#9.2
25/06/2024
RPI 2790
#7.1
15/02/2024
RPI 2771
#3.1
19/03/2019
RPI 2515
#2.1
17/10/2017
RPI 2441
#2.10
Número de Protocolo '870170053686' em 28/07/2017 12:28 (WB)
08/08/2017
RPI 2431
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