Patente de Invenção UNIDADE DE EXPOSIÇÃO, MECANISMO DE EXPOSIÇÃO E DISPOSITIVO DE FORMAÇÃO DE IMAGEM de RICOH COMPANY, LTD. — IPC G02B 26/12. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.
Descreve-se uma unidade de exposição que compreende um emissor de feixe de laser para emitir um feixe de laser correspondente ao sinal de exposição; uma parte espelho poligonal rotativo incluindo um espelho poligonal rotativo para receber e desviar o feixe de laser; uma lente F-teta para receber o feixe de laser desviado e gerar um feixe focalizado para emissão; e vários refletores sequencialmente dispostos num percurso óptico predeterminado cujo ponto de partida é a lente f-teta e cujo ponto de extremidade é uma superfície de um tambor fotocondutor na unidade de formação da imagem, e sequencialmente organizados de acordo com as distâncias de separação predeterminadas para receber o feixe focado e refletir o feixe focado várias vezes ao longo do percurso óptico predeterminado, de modo a fazer com que o feixe focado chegue à superfície do tambor fotocondutor, em que, os vários refletores plural incluem um refletor plano e um refletor de extremidade, o refletor de vanguarda sendo utilizado para receber o feixe focado, o refletor de extremidade sendo utilizado para refletir o feixe focado para a superfície do tambor fotocondutor; e uma distância a partir do refletor de extremidade para a superfície do tambor fotocondutor é inferior às distâncias de separação pré-determinadas e a uma distância do refletor de vanguarda para espelho poligonal rotativo.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
08/12/2020
RPI 2605
Exigência preliminar
#6.21
18/08/2020
RPI 2589
Publicação do pedido de patente
#3.1
15/08/2017
RPI 2432
Pedido de patente depositado
#2.1
18/07/2017
RPI 2428
Exigência - art. 21 da LPI
#2.5
10/01/2017
RPI 2401
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo 870160059622 em 13/10/2016 07:58(WB).
