Patente de Invenção DISPOSITIVO E PROCESSO DE TESTE ESTRUTURAL SIMULTÂNEO E SERIAL DE CIRCUITOS INTEGRADOS EM LÂMINA DE SILÍCIO de CENTRO NACIONAL DE TECNOLOGIA ELETRÔNICA AVANÇADA S.A. — IPC G01R 31/26. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.
Patente concedida em 06/02/2024 e em vigor até 05/08/2036. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:05/08/2036
Última movimentação publicada pelo INPI: 06/02/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
CENTRO NACIONAL DE TECNOLOGIA ELETRÔNICA AVANÇADA S.A.
MECANISMO DE TESTE ESTRUTURAL SIMULTÂNEO E SERIAL DE CIRCUITOS INTEGRADOS EM LÂMINA DE SILÍCIO E PROCEDIMENTO DE TESTE ESTRUTURAL SIMULTÂNEO E SERIAL DE CIRCUITOS INTEGRADOS EM LÂMINA DE SILÍCIO. Novo mecanismo e procedimento para teste estrutural simultâneo e serial de circuitos integrados em lâmina de silício (wafer), o qual propõe uma solução completa, simples e de baixo custo para teste dos circuitos integrados que possibilita a realização do teste estrutural simultâneo de vários circuitos em um wafer, mantendo a capacidade de qualquer teste serial desses circuitos, reduzindo drasticamente o tempo de teste de produção de circuitos integrados que atualmente é muito alto e que causa grande impacto no custo dos mesmos. Tendo como proposta reduzir o tempo de teste de produção de circuitos integrados, através da execução simultânea do teste estrutural de vários circuitos integrados; reduzir o custo de circuitos integrados, através da diminuição do tempo de teste de produção; aumentar a competitividade dos produtos, através da redução de custo; diminuir o tempo até a venda (?Time-To-Market?), através da utilização do mesmo mecanismo de teste para testes de prototipação (bringup) e produção; e aumentar a vazão da testadora de circuitos integrados, através da execução simultânea de testes estruturais.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 05/08/2016, observadas as condições legais
06/02/2024
RPI 2770
Deferimento
#9.1
02/01/2024
RPI 2765
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
06/06/2023
RPI 2735
Exigência preliminar (variante)
#6.22
09/08/2022
RPI 2692
Publicação do pedido de patente
#3.1
06/03/2018
RPI 2461
Pedido de patente depositado
#2.1
18/10/2016
RPI 2389
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo 870160042112 em 05/08/2016 02:47(WB).
