Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 10/02/2015, observadas as condições legais
25/01/2022
RPI 2664
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Dado oficial do INPI
PROCESSO PARA A FABRICAÇÃO DE UM SUBSTRATO PROVIDO COM UMA APASSIVAÇÃO LIVRE DE COBALTO E LIVRE DE CROMO VI
ConcedidaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
102015002873Tipo
Patente de Invenção
Depósito
10/02/2015
Publicação
21/06/2016
Andamento no INPI
- Depósito10/02/15
- Publicação21/06/16
- Exame
- Deferimento07/12/21
- Concessão25/01/22
- Em vigor10/02/35
Patente concedida em 25/01/2022 e em vigor até 10/02/2035. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:10/02/2035
Última movimentação publicada pelo INPI: 25/01/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
EWALD DÖRKEN AG
DE
Inventores
C. K. (pessoa física)
DE
G. R. (pessoa física)
DE
I. K. (pessoa física)
DE
M. R. (pessoa física)
DE
V. G. (pessoa física)
DE
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
14155058.2 · 13/02/2014
Resumo técnico
PROCESSO PARA A FABRICAÇÃO DE UM SUBSTRATO PROVIDO COM UMA APASSIVAÇÃO LIVRE DE CO- BAL TO E LIVRE DE CROMO VI. A presente invenção refere-se a um processo para a fabri- cação de um substrato provido com uma apassivação livre de cobalto e livre de cromo VI através de aplicação de uma primeira, apassivação ácida e uma segunda, apassivação alcalina, contendo um silicato mo- dificado com silano e/ou modificado com siloxano, com a qual uma aperfeiçoada proteção contra corrosão é obtida, uma composição áci- da, aquosa para apassivação e um substrato apassivado, e um dispo- sitivo para aplicação de apassivação .
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Deferimento
#9.1
07/12/2021
RPI 2657
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
05/10/2021
RPI 2648
Exigência preliminar
#6.21
24/12/2019
RPI 2555
Publicação do pedido de patente
#3.1
21/06/2016
RPI 2372
Pedido de patente depositado
#2.1
16/02/2016
RPI 2354
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo 20150002640 em 10/02/2015 11:30(RJ).
13/10/2015
RPI 2336
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