Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 23/10/2014, observadas as condições legais
04/05/2021
RPI 2626
Dados do pedido
Número
102014026498Tipo
Depósito
Publicação
Patente concedida em 04/05/2021 e em vigor até 23/10/2034. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:23/10/2034
Última movimentação publicada pelo INPI: 04/05/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
UNIVERSIDADE DE SÃO PAULO - USP
SP, BR
Inventores
J. C. (pessoa física)
BR
M. M. (pessoa física)
BR
R. O. (pessoa física)
BR
Classificação IPC
Resumo técnico
PROCESSO DE DEPOSIÇAO DE FILMES FINOS DE ITO E ITON, FILMES FINOS DE ITO E ITON E USO DOS MESMOS A presente invenção referese ao processo de deposição de filmes finos de ITO e ITON. Estes materiais foram evaporados sobre uma superfície de silicio e foram submetidos a processos de recozimento em atmosfera de nitrogênio e oxigênio. A caracterização foi feita para identificar as propriedades elétricas, ópticas e estrururais, sendo possível sua aplicação para fins ambientais, como a fabricação de células solares reduzindo gastos com energia elétrica no local como fonte de energia renovável.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 23/10/2014, observadas as condições legais
04/05/2021
RPI 2626
#9.1
02/03/2021
RPI 2617
#6.1
10/11/2020
RPI 2601
#6.6.1
27/02/2018
RPI 2460
#3.1
09/08/2016
RPI 2379
#2.1
15/03/2016
RPI 2358
#2.10
Número de Protocolo 18140019209 em 23/10/2014 02:45(SP).
08/12/2015
RPI 2344
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