Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
16/10/2018
RPI 2493
Dados do pedido
Número
102014024851Tipo
Depósito
Publicação
Carta-patente disponível
Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.
Acessar documentoPedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 03/10/2014, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 16/10/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
GEO INNOVA CONSULTORIA E PARTICIPAÇÕES LTDA.
BA, BR
TELES E NOGUEIRA CONSULTORIA LTDA.
RJ, BR
Inventores
D. F. (pessoa física)
BR
Classificação IPC
Resumo técnico
VÁLVULA DE GÁS LIFT APLICADA EM MANDRIL, MANDRIL DE GÁS LIFT SELETIVO E SISTEMA DE ELEVAÇÃO POR GÁS LIFT. A presente invenção descreve uma válvula de gás lift aplicada em mandril para a elevação de hidrocarbonetos fluidos em reservatórios, mandril de gás lift seletivo e, por fim, um sistema de elevação por gás lift. Ainda, a válvula de gás lift aplicada em mandril permite ao processo realizar a segregação de fluxo de acordo com o fluido, mais especificamente, a válvula permite circulações de líquido e gás nas máximas vazões possíveis, reduzindo tempos de sonda e propiciando limpezas de colunas mais efetivas durante os workovers. A presente invenção se situa nos campos da indústria petrolífera e da engenharia de petróleo.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
16/10/2018
RPI 2493
#11.1
19/06/2018
RPI 2476
#3.1
24/05/2016
RPI 2368
#2.1
23/12/2014
RPI 2294
#2.10
Número de Protocolo 860140167857 em 03/10/2014 06:22(WB).
14/10/2014
RPI 2284
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