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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO E MÉTODO PARA RECIRCULAÇÃO DE GÁS DE EXAUSTÃO DE BAIXA PRESSÃO

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

102014010250

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

29/04/2014

Publicação

29/12/2015

Andamento no INPI

  1. Depósito29/04/14
  2. Publicação29/12/15
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 19/10/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

FORD GLOBAL TECHNOLOGIES, LLC.

US

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Inventores

A. K. (pessoa física)

NL

F. S. (pessoa física)

DE

H. K. (pessoa física)

DE

J. K. (pessoa física)

DE

N. S. (pessoa física)

DE

V. S. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

DE

102013211823.6 · 21/06/2013

Resumo técnico

DISPOSITIVO E MÉTODO PARA RECIRCULAÇÃO DE GÁS DE EXAUSTÃO DE BAIXA PRESSÃO [001] Trata-se de um dispositivo e de um método para recirculação de gás de exaustão de baixa pressão em um motor de combustão interna com turbocompressor, uma linha de recirculação de gás de exaustão que bifurca a jusante de um dispositivo de pós-tratamento de gás de exaustão (1), cuja linha de recirculação de gás de exaustão emite para o interior de uma linha de ar fresco do motor de combustão interna a montante do compressor do turbocompressor. De acordo com a invenção, o dispositivo de pós-tratamento de gás de exaustão (1) é composto substancialmente por um catalisador de oxidação (2) e por um filtro de partícula a jusante (3). Uma seção da linha de recirculação de gás de exaustão é formada por uma cavidade que circunda o dispositivo de pós-tratamento de gás de exaustão (1) e que é um duto anular (8) delimitado radialmente para o interior por um invólucro (4) do dispositivo de pós-tratamento de gás de exaustão (1) e radialmente para o exterior por um revestimento (7) que circunda o dispositivo de pós-tratamento de gás de exaustão (1) com um pequeno espaçamento sobre seu comprimento.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

19/10/2021

RPI 2650

Exigência preliminar (variante)

#6.22

06/07/2021

RPI 2635

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

13/11/2018

RPI 2497

Republicação - classificação IPC

#15.11

Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: F01N 3/24; F02M 25/07; F01N 13/00.

27/03/2018

RPI 2464

Publicação do pedido de patente

#3.1

29/12/2015

RPI 2347

Pedido de patente depositado

#2.1

21/01/2015

RPI 2298

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 18140008886 em 29/04/2014 12:50(SP).

19/08/2014

RPI 2276

Monitoramento de patentes

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