Dados do pedido
Número
102013029996Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 23/03/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Plasmar Indústria Metalúrgica Ltda.
RS, BR
Inventores
C. F. (pessoa física)
BR
M. F. (pessoa física)
AR
Classificação IPC
Resumo técnico
REATOR A PLASMA DE TENSÃO CONTÍNUA OU PULSADA DE DESCARGA LUMINESCENTE INTENSA A BAIXA PRESSÃO POR CONFINAMENTO ELETROSTÁTICO E PROCESSOS A PLASMA MELHORADOS POR TAL TIPO DE REATOR. Reator a plasma de tensão contínua ou pulsada caracterizado por um sistema multi-cátodo e multi-ânodo composto de barras cilíndricas de aço dispostas a diferentes distâncias do centro do reator e a diferentes alturas base-topo mediante o uso de pratos circulares de aço para fixação e organização das barras catódicas e anódicas e, ainda, os processos a plasma melhorados por tal tipo de reator em uma faixa de pressão de processo entre 10 e 100 Pa.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2605 de 08-12-2020 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
23/03/2021
RPI 2620
#8.6
Referente à 7ª anuidade.
08/12/2020
RPI 2605
Anulada a publicação código 6.6.1 na RPI nº 2462 de 13/03/2018 por ter sido indevida.
20/03/2018
RPI 2463
#6.6.1
13/03/2018
RPI 2462
#6.6.1
06/03/2018
RPI 2461
#4.3
20/06/2017
RPI 2424
#11.1
07/03/2017
RPI 2409
08/11/2016
RPI 2392
#8.6
Referente à 3ª anuidade.
20/09/2016
RPI 2385
#3.1
15/09/2015
RPI 2332
#2.1
25/02/2014
RPI 2251
#2.6
ANULADA A PUBLICAÇÃO REALIZADA NA RPI 2247 DE 28/01/2014 POR TER SIDO INDEVIDA.
18/02/2014
RPI 2250
#2.5
28/01/2014
RPI 2247
#2.10
Número de Protocolo 860130007995 em 22/11/2013 01:09(WB).
10/12/2013
RPI 2240
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