Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
10/03/2020
RPI 2566
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Dado oficial do INPI
MÁSCARA DE ALTA DENSIDADE PARA SUBSTRATOS TRIDIMENSIONAIS E MÉTODOS DE FABRICAÇÃO DA MESMA
ArquivadaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
102013009987Tipo
Patente de Invenção
Depósito
24/04/2013
Publicação
16/06/2015
Andamento no INPI
- Depósito24/04/13
- Publicação16/06/15
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 10/03/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Johnson & Johnson Vision Care , INC
US
Inventores
A. T. (pessoa física)
US
J. R. (pessoa física)
US
P. P. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
13/455,209 · 25/04/2012
Resumo técnico
MÁSCARA DE ALTA DENSIDADE PARA SUBSTRATOS TRIDIMENSIONAIS E MÉTODOS DE FABRICAÇÃO DA MESMA. A presente invenção refere-se a um método para a fabricação de máscaras de alta densidade para substratos não planos ou tridimensionais que utiliza um mandril que tem uma ou mais formas de precisão usinadas no mesmo. Uma vez que o mandril com uma ou mais formas é fabricado, uma ou mais máscaras virgens podem ser construídas no mesmo. As máscaras finais podem ser construídas no mesmo. As máscaras finais podem ser recortadas a partir das uma ou mais máscaras virgens
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Exigência preliminar
#6.21
05/11/2019
RPI 2548
Notificação de acesso ao patrimônio genético
#6.6.1
04/12/2018
RPI 2500
Publicação do pedido de patente
#3.1
16/06/2015
RPI 2319
Pedido de patente depositado
#2.1
31/12/2013
RPI 2243
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo 20130034768 em 24/04/2013 05:05(RJ).
02/07/2013
RPI 2217
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