Dados do pedido
Número
102013003091Tipo
Depósito
Publicação
Patente concedida em 22/06/2021 e depois extinta em 19/03/2024. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 19/03/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
The Boeing Company
US
Inventores
K. C. (pessoa física)
US
S. S. (pessoa física)
US
S. F. (pessoa física)
US
V. R. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
13/370,314 · 10/02/2012
Resumo técnico
CURVATURA DE KRUEGER VARIÁVEL EM TRÊS POSIÇÕES EM POSIÇÃO ELEVADA. A presente invenção refere-se a um sistema e um método para permitir o fluxo laminar natural ao longo de um corpo de fluido dinâmico utilizando uma aba da curvatura de Krueger variável (306) são descritos. Uma sequência de posições da aba é implantada onde a aba da curvatura de Krueger variável (306) está abaixo e atrás do bordo de ataque da asa (402, 540) antes de chegar a uma posição configurada de pouso e decolagem (554, 702). A aba da curvatura de Krueger variável (306) é posicionada em uma posição elevada em relação a um bordo de ataque da asa (402, 540) quando a aba da curvatura de Krueger variável (306) está totalmente implantada.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2760 de 28-11-2023 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
19/03/2024
RPI 2776
#21.6
Referente à 11ª anuidade.
28/11/2023
RPI 2760
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 07/02/2013, observadas as condições legais
22/06/2021
RPI 2633
Retificação do deferimento publicado na RPI2626.
15/06/2021
RPI 2632
#9.1
04/05/2021
RPI 2626
#6.21
11/02/2020
RPI 2562
#6.6.1
04/12/2018
RPI 2500
#3.1
16/06/2015
RPI 2319
#2.1
28/01/2014
RPI 2247
#2.10
Número de Protocolo 20130010957 em 07/02/2013 04:25(RJ).
02/07/2013
RPI 2217
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