Manutenção do arquivamento
#11.20
29/09/2020
RPI 2595
Dados do pedido
Número
102012029201Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado pelo INPI. O processo foi encerrado sem chegar a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 29/09/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
DRAKA COMTEQ, B.V
NL
Inventores
I. M. (pessoa física)
NL
J. H. (pessoa física)
NL
M. S. (pessoa física)
NL
Classificação IPC
Prioridades unionistas
NL
2007809 · 17/11/2011
Resumo técnico
APARELHO PARA REALIZAR UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE VAPOR QUÍMICO POR PLASMA - A invenção se refere a um aparelho para realizar um processo de deposição de vapor químico por plasma. O aparelho compreende um ressonador principalmente cilíndrico sendo provido com uma parede cilíndrica externa encerrando uma cavidade ressonante tendo uma conformação simétrica substancialmente rotacional em relação a um eixo cilíndrico. O ressonador ainda inclui porções de parede lateral ligando a cavidade ressonante nas direções do eixo cilíndrico opostas. Além disso, o aparelho compreende um guia de micro-ondas se estendendo através da parede cilíndrica externa dentro da cavidade ressonante. O comprimento da cavidade ressonante na direção cilíndrica varia como uma função da distância radial ao eixo cilíndrico.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.20
29/09/2020
RPI 2595
#11.5
17/09/2019
RPI 2541
09/07/2019
RPI 2531
#6.6.1
27/03/2018
RPI 2464
#25.7
13/03/2018
RPI 2462
#3.1
27/02/2018
RPI 2460
#2.1
16/01/2018
RPI 2454
#2.10
Número de Protocolo 20120106736 em 14/11/2012 04:53(RJ).
12/03/2013
RPI 2201
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