Dados do pedido
Número
102012026834Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 29/03/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
M. J. (pessoa física)
RS, BR
Inventores
M. J. (pessoa física)
BR
Classificação IPC
Resumo técnico
APERFEIÇOAMENTO EM VÁLVULA DE CONTROLE DE FLUXO DE INJEÇÃO, refere-se o objeto da presente patente composta do molde (01) formado pelas partes inferior (02) e superior (03), instalado entre os platôs superior (04) e inferior (05) da injetora.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2343 de 01-12-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
29/03/2016
RPI 2360
#8.6
Referente à 3ª anuidade.
01/12/2015
RPI 2343
#3.1
30/09/2014
RPI 2282
#2.1
27/08/2013
RPI 2225
#2.10
Número de Protocolo 16120005210 em 19/10/2012 03:57(RS).
07/05/2013
RPI 2209
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