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Dado oficial do INPI

PLACA RADIANTE PARA AQUECIMENTO COMPLEMENTAR

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

102012024968

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

01/10/2012

Publicação

23/06/2015

Andamento no INPI

  1. Depósito01/10/12
  2. Publicação23/06/15
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 05/04/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

E. B. (pessoa física)

SP, BR

Inventores

E. B. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

PLACA RADIANTE PARA AQUECIMENTO COMPLEMENTAR. Patente de invenção caracterizada por uma placa cerâmica de formulação especial (1) para altas temperaturas, estruturada por perfis metálicos de aço ligado especial, emoldurado por perfis "U" de aço inoxidável refratário (2) com conformação plana ou côncavo/convexa e dimensões estabelecidas em função da forma e dimensões da fornalha (4) onde vai se adaptada, ficando com suas faces paralelas Às paredes desta fornalha, e sua posição na fornalha de apoio é feita por perfis "L" (3), de aço inoxidável refratário, fixados por solda elétrca a moldura de aço inoxidável (2).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2343 de 01-12-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

05/04/2016

RPI 2361

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 3ª anuidade.

01/12/2015

RPI 2343

Publicação do pedido de patente

#3.1

23/06/2015

RPI 2320

Pedido de patente depositado

#2.1

23/07/2013

RPI 2220

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 20120092427 em 01/10/2012 11:31(RJ).

05/03/2013

RPI 2200

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