Extinção para fins de restauração (art. 87)
#21.6
Referente à 14ª anuidade.
26/05/2026
RPI 2890
Dados do pedido
Número
102012016418Tipo
Depósito
Publicação
Patente concedida em 19/02/2019 e depois extinta em 26/05/2026. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 26/05/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
INAPEL EMBALAGENS LTDA
SP, BR
Inventores
R. A. (pessoa física)
BR
Classificação IPC
Resumo técnico
PROCESSO DE APLICAÇÃO DE TEXTURA EM ALTO RELEVO. A presente patente de Modelo de Utilidade diz respeito a Processo de Aplicação de Textura em alto Relevo caracterizado por ser constituído pela gravação (2) de cilindro de rotogravura através do rebaixamento da superticie do mesmo, ou seja, promove uma cavidade que carregada de tinta ou neste caso verniz, o transfere para o substrato (3) a ser impresso, sendo que, perto da totalidade desta carga, no caso o verniz de relevo, é aplicado ao substrato (3) no processo de impressão continua e rotativa em equipamentos (4) de impressão em rotogravura, e adquire forma ou alto relevo durante o processo de secagem do verniz.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#21.6
Referente à 14ª anuidade.
26/05/2026
RPI 2890
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 03/07/2012, observadas as condições legais
19/02/2019
RPI 2511
#9.1
05/02/2019
RPI 2509
Pedido renumerado devido a mudança de natureza de BR202012016418-9 para BR102012016418-3.
29/01/2019
RPI 2508
#7.1
25/09/2018
RPI 2490
#4.3
30/08/2016
RPI 2382
#11.1
05/04/2016
RPI 2361
#3.1
20/10/2015
RPI 2337
#2.1
05/02/2013
RPI 2196
#2.10
Número de Protocolo 18120024021 em 03/07/2012 12:59(SP).
04/09/2012
RPI 2174
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