NRCC
NOTICE OF REGISTRATION CONFIRMATION EMAILED
28/04/2026
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Dado oficial do USPTO
TEPHRA
Sabia que essa marca já está registrada no Estados Unidos?
Antes de investir em nome, identidade e divulgação, valide risco de colisão e estratégia de registro para não perder tempo nem budget.
Active USPTO registrationTipo: VerbalEscritório: US
Diagnóstico de risco e oportunidade
Leitura executiva para decisão de naming, protocolo e monitoramento.
Situação USPTO
Active USPTO registration
Tipo de processo
Pedido e registro
Eventos registrados
18
Atualização mais recente
28/04/2026
Classificação
Registrada
Tipo de marca
Verbal
Classes Nice
7
Data de depósito
31/05/2024
Data de registro
28/04/2026
Data de expiração
-
Ação recomendada
Execute uma análise de colidência completa e valide classes antes de qualquer protocolo ou investimento de marca.
Próximo passo
Esses são os detalhes do processo de registro. Mesmo assim, o monitoramento constante é o que garante tranquilidade de que o seu principal ativo continue protegido.
Dados completos do processo
Campos estruturados da autoridade responsável e do histórico oficial.
Data da situação
28/04/2026
Última transação
28/04/2026
Escritório responsável
United States Patent and Trademark Office
Código da situação
700
Cadastro oficial
Principal Register
Fundamento do pedido
Intent to use
Primeiro uso
2024-11-00
Primeiro uso no comércio
2024-11-00
Código do desenho
4
Tipo de titular
03
Localização do titular
Thornton, CO, US
Examinador
MASON, JARED MICHAEL
Unidade examinadora
N10
Localização atual
PUBLICATION AND ISSUE SECTION
Titulares e representantes
Titulares
Forge Nano, Inc.
Representantes
Haley Breedlove Snell & Wilmer L.L.P.
Classificação técnica
Classes Nice
Classe 7
Códigos Vienna
Sem códigos Vienna disponíveis.
Produtos e serviços
Classe 7
Equipment and machines for the processing of semiconductor substratesthin filmssilicon wafersmachines for thin-film coatingusing atomic layer depositionthe surface of semiconductor substratessilicon wafersmachines for manufacturing thin filmsusing atomic layer depositionfor semiconductor substrates
Publicações
Histórico de despachos e eventos da marca no USPTO.
18 publicações encontradas
R.PR
REGISTERED-PRINCIPAL REGISTER
28/04/2026
SUNA
NOTICE OF ACCEPTANCE OF STATEMENT OF USE E-MAILED
03/04/2026
CNPR
ALLOWED PRINCIPAL REGISTER - SOU ACCEPTED
03/04/2026
SUPC
STATEMENT OF USE PROCESSING COMPLETE
12/03/2026
AITU
CASE ASSIGNED TO INTENT TO USE PARALEGAL
11/03/2026
IUAF
USE AMENDMENT FILED
03/09/2025
EISU
TEAS STATEMENT OF USE RECEIVED
03/09/2025
NOAM
NOA E-MAILED - SOU REQUIRED FROM APPLICANT
11/03/2025
NPUB
OFFICIAL GAZETTE PUBLICATION CONFIRMATION E-MAILED
14/01/2025
PUBO
PUBLISHED FOR OPPOSITION
14/01/2025
NONP
NOTIFICATION OF NOTICE OF PUBLICATION E-MAILED
08/01/2025
CNSA
APPROVED FOR PUB - PRINCIPAL REGISTER
18/12/2024
DOCK
ASSIGNED TO EXAMINER
13/12/2024
NWOS
NEW APPLICATION OFFICE SUPPLIED DATA ENTERED
11/12/2024
TAEA
TEAS AMENDMENT ENTERED BEFORE ATTORNEY ASSIGNED
12/11/2024
PARI
TEAS VOLUNTARY AMENDMENT RECEIVED
12/11/2024
NWAP
NEW APPLICATION ENTERED
31/05/2024
Proteção contínua da sua marca
Seja avisado a cada novo depósito que ameace TEPHRA ou a sua marca.
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