NRCC
NOTICE OF REGISTRATION CONFIRMATION EMAILED
27/05/2025
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Dado oficial do USPTO
BESTSOLV
Sabia que essa marca já está registrada no Estados Unidos?
Antes de investir em nome, identidade e divulgação, valide risco de colisão e estratégia de registro para não perder tempo nem budget.
Active USPTO registrationTipo: VerbalEscritório: US
Diagnóstico de risco e oportunidade
Leitura executiva para decisão de naming, protocolo e monitoramento.
Situação USPTO
Active USPTO registration
Tipo de processo
Pedido e registro
Eventos registrados
16
Atualização mais recente
27/05/2025
Classificação
Registrada
Tipo de marca
Verbal
Classes Nice
1
Data de depósito
27/06/2023
Data de registro
27/05/2025
Data de expiração
-
Ação recomendada
Execute uma análise de colidência completa e valide classes antes de qualquer protocolo ou investimento de marca.
Próximo passo
Esses são os detalhes do processo de registro. Mesmo assim, o monitoramento constante é o que garante tranquilidade de que o seu principal ativo continue protegido.
Dados completos do processo
Campos estruturados da autoridade responsável e do histórico oficial.
Data da situação
27/05/2025
Última transação
27/05/2025
Escritório responsável
United States Patent and Trademark Office
Código da situação
700
Cadastro oficial
Principal Register
Fundamento do pedido
Intent to use
Primeiro uso
01/04/2023
Primeiro uso no comércio
15/05/2023
Código do desenho
4
Tipo de titular
03
Localização do titular
Plymouth, MN
Examinador
CLAYTON, CHERYL A
Unidade examinadora
L20
Localização atual
PUBLICATION AND ISSUE SECTION
Titulares e representantes
Titulares
Best Technology, Inc.
Representantes
Daniel J Buchmeier
Classificação técnica
Classes Nice
Classe 1
Códigos Vienna
Sem códigos Vienna disponíveis.
Produtos e serviços
Classe 1
Degreasing preparations for use in manufacturing processes; Abrasive compositions used in the manufacture of metal polish; Aromatic solvents for industrial and commercial use; Chemical compositions for metal plating; Chemical preparations for use in industry; Chemical slurries for polishing semiconductors; Chemical source material for the deposition of thin films upon semiconductor wafers for the manufacture of semiconductors; Chemicals for use in the biochemical and chemical industry; Chemicals used in industry; Citric acid; Citric acid for industrial purposes; Degreasing solvents for use in manufacturing processes; Detergents for use in manufacturing processes; Fire extinguishing and fire prevention compositions; Glycol; Heat transfer fluids for industrial use; Magnetic fluid for industrial purposes; Metal plating chemical compositions; Metal plating chemical compositionselectrolytic acid copper solutions; Nitric acid; Phosphoric acid; Polymers and polymeric additives for use in the manufacture of industrial productsconsumer and household productssealantsautomotive fluids; Propylene glycol; Specialty chemicalschemical additives for general industrial use in the manufacture of a wide variety of goods; Sulfuric acid; Water-based electrolyte coolants for electro-chemical machining operations
Publicações
Histórico de despachos e eventos da marca no USPTO.
16 publicações encontradas
R.PR
REGISTERED-PRINCIPAL REGISTER
27/05/2025
SUNA
NOTICE OF ACCEPTANCE OF STATEMENT OF USE E-MAILED
03/05/2025
CNPR
ALLOWED PRINCIPAL REGISTER - SOU ACCEPTED
03/05/2025
SUPC
STATEMENT OF USE PROCESSING COMPLETE
07/03/2025
AITU
CASE ASSIGNED TO INTENT TO USE PARALEGAL
06/03/2025
IUAF
USE AMENDMENT FILED
26/12/2024
EISU
TEAS STATEMENT OF USE RECEIVED
26/12/2024
NOAM
NOA E-MAILED - SOU REQUIRED FROM APPLICANT
25/06/2024
NPUB
OFFICIAL GAZETTE PUBLICATION CONFIRMATION E-MAILED
30/04/2024
PUBO
PUBLISHED FOR OPPOSITION
30/04/2024
NONP
NOTIFICATION OF NOTICE OF PUBLICATION E-MAILED
10/04/2024
CNSA
APPROVED FOR PUB - PRINCIPAL REGISTER
23/03/2024
DOCK
ASSIGNED TO EXAMINER
12/03/2024
NWOS
NEW APPLICATION OFFICE SUPPLIED DATA ENTERED
30/07/2023
NWAP
NEW APPLICATION ENTERED
30/06/2023
Proteção contínua da sua marca
Seja avisado a cada novo depósito que ameace BESTSOLV ou a sua marca.
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