NRCC
NOTICE OF REGISTRATION CONFIRMATION EMAILED
28/01/2025
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Dado oficial do USPTO
I
Sabia que essa marca já está registrada no Estados Unidos?
Antes de investir em nome, identidade e divulgação, valide risco de colisão e estratégia de registro para não perder tempo nem budget.
Active USPTO registrationTipo: MistaEscritório: US
Diagnóstico de risco e oportunidade
Leitura executiva para decisão de naming, protocolo e monitoramento.
Situação USPTO
Active USPTO registration
Tipo de processo
Pedido e registro
Eventos registrados
21
Atualização mais recente
28/01/2025
Classificação
Registrada
Tipo de marca
Mista
Classes Nice
1
Data de depósito
13/04/2023
Data de registro
28/01/2025
Data de expiração
-
Ação recomendada
Execute uma análise de colidência completa e valide classes antes de qualquer protocolo ou investimento de marca.
Próximo passo
Esses são os detalhes do processo de registro. Mesmo assim, o monitoramento constante é o que garante tranquilidade de que o seu principal ativo continue protegido.
Dados completos do processo
Campos estruturados da autoridade responsável e do histórico oficial.
Data da situação
28/01/2025
Última transação
28/01/2025
Escritório responsável
United States Patent and Trademark Office
Código da situação
700
Cadastro oficial
Principal Register
Fundamento do pedido
Intent to use
Primeiro uso
10/12/2010
Primeiro uso no comércio
10/12/2010
Código do desenho
3
Tipo de titular
03
Localização do titular
Corvallis, OR, US
Examinador
SOBRAL, CHRISTINA
Unidade examinadora
L90
Localização atual
PUBLICATION AND ISSUE SECTION
Descrição da marca
The mark consists of a blue droplet containing the stylized white letter "i".
Titulares e representantes
Titulares
I. C. (pessoa física)
Representantes
William E. Anderson CHRISTENSEN, FONDER, DARDI & HERBERT PLLC
Classificação técnica
Classes Nice
Classe 1
Códigos Vienna
Sem códigos Vienna disponíveis.
Produtos e serviços
Classe 1
Photoresists in the nature of chemicals; solutions of chemicals useful to form metal oxide thin films; solutions of chemicals for deposition of metal oxide thin films for use as hard mask layers; metal oxides for use in a photoresist processsolutions of metal oxides; developersphotoresist developers for use with photoresists in the nature of chemicals; underlayer materials in the nature of chemicalschemical compositions for use with photoresist patterning
Publicações
Histórico de despachos e eventos da marca no USPTO.
21 publicações encontradas
R.PR
REGISTERED-PRINCIPAL REGISTER
28/01/2025
SUNA
NOTICE OF ACCEPTANCE OF STATEMENT OF USE E-MAILED
06/01/2025
CNPR
ALLOWED PRINCIPAL REGISTER - SOU ACCEPTED
06/01/2025
SUPC
STATEMENT OF USE PROCESSING COMPLETE
20/12/2024
AITU
CASE ASSIGNED TO INTENT TO USE PARALEGAL
20/12/2024
IUAF
USE AMENDMENT FILED
08/10/2024
EISU
TEAS STATEMENT OF USE RECEIVED
08/10/2024
NOAM
NOA E-MAILED - SOU REQUIRED FROM APPLICANT
09/04/2024
NPUB
OFFICIAL GAZETTE PUBLICATION CONFIRMATION E-MAILED
13/02/2024
PUBO
PUBLISHED FOR OPPOSITION
13/02/2024
NONP
NOTIFICATION OF NOTICE OF PUBLICATION E-MAILED
24/01/2024
CNSA
APPROVED FOR PUB - PRINCIPAL REGISTER
09/01/2024
XAEC
EXAMINER'S AMENDMENT ENTERED
09/01/2024
GNEN
NOTIFICATION OF EXAMINERS AMENDMENT E-MAILED
09/01/2024
GNEA
EXAMINERS AMENDMENT E-MAILED
09/01/2024
CNEA
EXAMINERS AMENDMENT -WRITTEN
09/01/2024
DOCK
ASSIGNED TO EXAMINER
09/01/2024
MDSM
NOTICE OF DESIGN SEARCH CODE E-MAILED
09/05/2023
NWOS
NEW APPLICATION OFFICE SUPPLIED DATA ENTERED
08/05/2023
NWAP
NEW APPLICATION ENTERED
17/04/2023
Proteção contínua da sua marca
Seja avisado a cada novo depósito que ameace I ou a sua marca.
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