NA85
NOTICE OF ACCEPTANCE OF SEC. 8 & 15 - E-MAILED
20/01/2026
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Dado oficial do USPTO
MAKE POSSIBLE
Sabia que essa marca já está registrada no Estados Unidos?
Antes de investir em nome, identidade e divulgação, valide risco de colisão e estratégia de registro para não perder tempo nem budget.
Active USPTO registrationTipo: VerbalEscritório: US
Snapshot rápido
MAKE POSSIBLE
ST13
US500000086801025Classe
7, 9, 37
Pedido
86801025
Registro
5745823
Diagnóstico de risco e oportunidade
Leitura executiva para decisão de naming, protocolo e monitoramento.
Situação USPTO
Active USPTO registration
Tipo de processo
Pedido e registro
Eventos registrados
43
Atualização mais recente
21/01/2026
Classificação
Registrada
Tipo de marca
Verbal
Classes Nice
7, 9, 37
Data de depósito
27/10/2015
Data de registro
07/05/2019
Data de expiração
-
Ação recomendada
Execute uma análise de colidência completa e valide classes antes de qualquer protocolo ou investimento de marca.
Próximo passo
Esses são os detalhes do processo de registro. Mesmo assim, o monitoramento constante é o que garante tranquilidade de que o seu principal ativo continue protegido.
Dados completos do processo
Campos estruturados da autoridade responsável e do histórico oficial.
Data da situação
20/01/2026
Última transação
21/01/2026
Escritório responsável
United States Patent and Trademark Office
Código da situação
702
Cadastro oficial
Principal Register
Fundamento do pedido
Intent to use
Primeiro uso
2016-10-00
Primeiro uso no comércio
2016-10-00
Código do desenho
4
Tipo de titular
03
Localização do titular
Santa Clara, CA
Examinador
MITTLER,KEVIN A
Localização atual
Historical data usage
Titulares e representantes
Titulares
Applied Materials, Inc.
Representantes
Anthony J. Malutta KILPATRICK TOWNSEND & STOCKTON LLP
Classificação técnica
Classes Nice
Classe 7Classe 9Classe 37
Códigos Vienna
Sem códigos Vienna disponíveis.
Produtos e serviços
Classe 7
Semiconductor wafer processing equipment; Semiconductor wafer processing componentsepitaxial chemical reactorschemical vapor deposition reactorsphysical vapor deposition reactorsall reactors for industrial useion implanting machinesoperational software sold as a component of the foregoingall for the processing and production of semiconductor substratesthin filmssilicon discs and wafers; equipment and systems comprised of manufacturing and assembling machinery for making flat panel display screens; plasma etching machines and chemical mechanical polishing devices; equipment and systems for the generation and transformation of electricity from solar energy comprised of construction and manufacturing machinery and instruments for making solar instruments and materialsphotovoltaic solar generatorsphotovoltaic solar cellsinvertersdirect current cables and solar radiation-related monitoring and tracking devices
Classe 9
Electron microscopes; integrated circuits; flat panel display screens; computer software for use in diagnostic and fault detection of semiconductor wafers and photovoltaic cells; electronic imaging platforms in the field of inspection of semiconductor materialssemiconductor wafers and photovoltaic cells; electronic apparatus for measuring and testing semiconductor wafers and photovoltaic cells; solar cells; electronic sensors for measuring solar radiation; photovoltaic cells and modules
Classe 37
Maintenance and repair of semiconductor processing and production equipment; maintenance and repair of solar production equipment
Publicações
Histórico de despachos e eventos da marca no USPTO.
43 publicações encontradas
C15A
REGISTERED - SEC. 8 (6-YR) ACCEPTED & SEC. 15 ACK.
20/01/2026
APRE
CASE ASSIGNED TO POST REGISTRATION PARALEGAL
20/01/2026
E815
TEAS SECTION 8 & 15 RECEIVED
15/10/2025
REM1
COURTESY REMINDER - SEC. 8 (6-YR) E-MAILED
07/05/2024
R.PR
REGISTERED-PRINCIPAL REGISTER
07/05/2019
SUNA
NOTICE OF ACCEPTANCE OF STATEMENT OF USE E-MAILED
02/04/2019
CNPR
ALLOWED PRINCIPAL REGISTER - SOU ACCEPTED
31/03/2019
SUPC
STATEMENT OF USE PROCESSING COMPLETE
30/03/2019
IUAF
USE AMENDMENT FILED
28/03/2019
EISU
TEAS STATEMENT OF USE RECEIVED
28/03/2019
EXRA
NOTICE OF APPROVAL OF EXTENSION REQUEST E-MAILED
10/10/2018
EX5G
SOU EXTENSION 5 GRANTED
09/10/2018
AITU
CASE ASSIGNED TO INTENT TO USE PARALEGAL
09/10/2018
EXT5
SOU EXTENSION 5 FILED
01/10/2018
EEXT
SOU TEAS EXTENSION RECEIVED
01/10/2018
EXRA
NOTICE OF APPROVAL OF EXTENSION REQUEST E-MAILED
24/03/2018
EX4G
SOU EXTENSION 4 GRANTED
22/03/2018
EXT4
SOU EXTENSION 4 FILED
22/03/2018
EEXT
SOU TEAS EXTENSION RECEIVED
22/03/2018
EXRA
NOTICE OF APPROVAL OF EXTENSION REQUEST E-MAILED
22/08/2017
EX3G
SOU EXTENSION 3 GRANTED
18/08/2017
EXT3
SOU EXTENSION 3 FILED
18/08/2017
EEXT
SOU TEAS EXTENSION RECEIVED
18/08/2017
EXRA
NOTICE OF APPROVAL OF EXTENSION REQUEST E-MAILED
24/01/2017
TCCA
TEAS CHANGE OF CORRESPONDENCE RECEIVED
20/01/2017
EX2G
SOU EXTENSION 2 GRANTED
20/01/2017
EXT2
SOU EXTENSION 2 FILED
20/01/2017
EEXT
SOU TEAS EXTENSION RECEIVED
20/01/2017
TCCA
TEAS CHANGE OF CORRESPONDENCE RECEIVED
02/11/2016
EXRA
NOTICE OF APPROVAL OF EXTENSION REQUEST E-MAILED
13/08/2016
EX1G
SOU EXTENSION 1 GRANTED
11/08/2016
EXT1
SOU EXTENSION 1 FILED
11/08/2016
EEXT
SOU TEAS EXTENSION RECEIVED
11/08/2016
TCCA
TEAS CHANGE OF CORRESPONDENCE RECEIVED
11/08/2016
NOAM
NOA E-MAILED - SOU REQUIRED FROM APPLICANT
29/03/2016
NPUB
OFFICIAL GAZETTE PUBLICATION CONFIRMATION E-MAILED
02/02/2016
PUBO
PUBLISHED FOR OPPOSITION
02/02/2016
NONP
NOTIFICATION OF NOTICE OF PUBLICATION E-MAILED
13/01/2016
CNSA
APPROVED FOR PUB - PRINCIPAL REGISTER
25/11/2015
DOCK
ASSIGNED TO EXAMINER
16/11/2015
NWOS
NEW APPLICATION OFFICE SUPPLIED DATA ENTERED
30/10/2015
NWAP
NEW APPLICATION ENTERED
30/10/2015
Proteção contínua da sua marca
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