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Dado oficial do USPTO

DEPFAB

Sabia que essa marca já está registrada no Estados Unidos?

Antes de investir em nome, identidade e divulgação, valide risco de colisão e estratégia de registro para não perder tempo nem budget.

Active USPTO registrationTipo: VerbalEscritório: US

Snapshot rápido

DEPFAB

ST13

US500000079370199

Classe

7, 9

Pedido

79370199

Registro

7483993

Diagnóstico de risco e oportunidade

Leitura executiva para decisão de naming, protocolo e monitoramento.

Atenção: há risco ativo

Situação USPTO

Active USPTO registration

Tipo de processo

Pedido e registro

Eventos registrados

32

Atualização mais recente

01/05/2026

Classificação

Registrada

Tipo de marca

Verbal

Classes Nice

7, 9

Data de depósito

13/04/2023

Data de registro

27/08/2024

Data de expiração

-

Ação recomendada

Execute uma análise de colidência completa e valide classes antes de qualquer protocolo ou investimento de marca.

Próximo passo

Esses são os detalhes do processo de registro. Mesmo assim, o monitoramento constante é o que garante tranquilidade de que o seu principal ativo continue protegido.

Dados completos do processo

Campos estruturados da autoridade responsável e do histórico oficial.

Data da situação

27/08/2024

Última transação

01/05/2026

Escritório responsável

United States Patent and Trademark Office

Código da situação

700

Cadastro oficial

Principal Register

Código do desenho

4

Tipo de titular

98

Localização do titular

GB

Examinador

HOWARD, PARKER WALDRIP

Unidade examinadora

N90

Localização atual

FILE REPOSITORY (FRANCONIA)

Titulares e representantes

Titulares

O. I. (pessoa física)
Oxford Instruments Nanotechnology Tools Limited

Representantes

Leigh Ann Lindquist Sughrue Mion, PLLC

Classificação técnica

Classes Nice

Classe 7Classe 9

Códigos Vienna

Sem códigos Vienna disponíveis.

Produtos e serviços

Classe 7

Vapor deposition machines for use in manufacturing semiconductors; plasma deposition and thermal growth machines for use in manufacturing semiconductors; apparatus and instruments for thin film processing namelyatomic layer deposition toolschemical vapour deposition toolsetch tools and cluster tools; flexible plasma processing apparatus for plasma etching and plasma deposition

Classe 9

Apparatus and instruments for plasma deposition for manufacturing and processing semiconductors for plasma deposition and thermal growth for manufacturing and processing semiconductors; apparatus and instruments for manufacturingprocessing and plasma treatment of semiconductor wafersplastics or other materials; plasma cluster toolsall being laboratory apparatus and instruments; laboratory apparatus and instruments for plasma research; computer hardware and downloadable software for for the purpose of the control and operation of vapor deposition machinesplasma deposition and thermal growth machinesapparatus and instruments for thin film processing namelyatomic layer deposition toolschemical vapour deposition toolsetch tools and cluster tools and flexible plasma processing apparatus for plasma etching and plasma deposition; replacement parts for the aforesaid goods

Publicações

Histórico de despachos e eventos da marca no USPTO.

32 publicações encontradas

CRCV

CORRECTION TRANSACTION RECEIVED FROM IB

30/04/2026

ADCH

CHANGE OF NAME/ADDRESS REC'D FROM IB

26/03/2026

NREP

NEW REPRESENTATIVE AT IB RECEIVED

19/02/2026

NREP

NEW REPRESENTATIVE AT IB RECEIVED

05/02/2026

FINO

FINAL DECISION TRANSACTION PROCESSED BY IB

29/03/2025

XXSS

GENERIC MADRID TRANSACTION SENT TO IB

17/02/2025

XXCR

GENERIC MADRID TRANSACTION CREATED

17/02/2025

FICR

FINAL DISPOSITION NOTICE CREATED, TO BE SENT TO IB

27/11/2024

NRCC

NOTICE OF REGISTRATION CONFIRMATION EMAILED

27/08/2024

R.PR

REGISTERED-PRINCIPAL REGISTER

27/08/2024

NPUB

OFFICIAL GAZETTE PUBLICATION CONFIRMATION E-MAILED

11/06/2024

PUBO

PUBLISHED FOR OPPOSITION

11/06/2024

NONP

NOTIFICATION OF NOTICE OF PUBLICATION E-MAILED

22/05/2024

CNSA

APPROVED FOR PUB - PRINCIPAL REGISTER

07/05/2024

TEME

TEAS/EMAIL CORRESPONDENCE ENTERED

30/04/2024

CRFA

CORRESPONDENCE RECEIVED IN LAW OFFICE

30/04/2024

TROA

TEAS RESPONSE TO OFFICE ACTION RECEIVED

30/04/2024

TCCA

TEAS CHANGE OF CORRESPONDENCE RECEIVED

29/04/2024

ECDR

TEAS CHANGE OF DOMESTIC REPRESENTATIVES ADDRESS

29/04/2024

ARAA

ATTORNEY/DOM.REP.REVOKED AND/OR APPOINTED

29/04/2024

REAP

TEAS REVOKE/APP/CHANGE ADDR OF ATTY/DOM REP RECEIVED

29/04/2024

CHAN

APPLICANT/CORRESPONDENCE CHANGES (NON-RESPONSIVE) ENTERED

29/04/2024

COAR

TEAS CHANGE OF OWNER ADDRESS RECEIVED

29/04/2024

RFNT

REFUSAL PROCESSED BY IB

19/02/2024

RFCS

NON-FINAL ACTION MAILED - REFUSAL SENT TO IB

29/01/2024

RFRR

REFUSAL PROCESSED BY MPU

29/01/2024

RFCR

NON-FINAL ACTION (IB REFUSAL) PREPARED FOR REVIEW

12/01/2024

CNRT

NON-FINAL ACTION WRITTEN

11/01/2024

DOCK

ASSIGNED TO EXAMINER

10/01/2024

MAFR

APPLICATION FILING RECEIPT MAILED

30/05/2023

NWOS

NEW APPLICATION OFFICE SUPPLIED DATA ENTERED

26/05/2023

REPR

SN ASSIGNED FOR SECT 66A APPL FROM IB

25/05/2023

Proteção contínua da sua marca

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