CRCV
CORRECTION TRANSACTION RECEIVED FROM IB
30/04/2026
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Dado oficial do USPTO
COBRA
Sabia que essa marca já está registrada no Estados Unidos?
Antes de investir em nome, identidade e divulgação, valide risco de colisão e estratégia de registro para não perder tempo nem budget.
Active USPTO registrationTipo: VerbalEscritório: US
Diagnóstico de risco e oportunidade
Leitura executiva para decisão de naming, protocolo e monitoramento.
Situação USPTO
Active USPTO registration
Tipo de processo
Pedido e registro
Eventos registrados
41
Atualização mais recente
01/05/2026
Classificação
Registrada
Tipo de marca
Verbal
Classes Nice
9
Data de depósito
02/08/2012
Data de registro
22/10/2013
Data de expiração
-
Ação recomendada
Execute uma análise de colidência completa e valide classes antes de qualquer protocolo ou investimento de marca.
Próximo passo
Esses são os detalhes do processo de registro. Mesmo assim, o monitoramento constante é o que garante tranquilidade de que o seu principal ativo continue protegido.
Dados completos do processo
Campos estruturados da autoridade responsável e do histórico oficial.
Data da situação
06/11/2024
Última transação
01/05/2026
Escritório responsável
United States Patent and Trademark Office
Código da situação
706
Cadastro oficial
Principal Register
Código do desenho
4
Tipo de titular
98
Localização do titular
GB
Examinador
POLZER, NATALIE M
Localização atual
Historical data usage
Titulares e representantes
Titulares
O. I. (pessoa física)
Oxford Instruments Nanotechnology Tools Limited
Oxford Instruments Nanotechnology; Tools Limited
Representantes
Mainak H. Mehta Procopio, Cory, Hargreaves & Savitch LLP
Classificação técnica
Classes Nice
Classe 9
Códigos Vienna
Sem códigos Vienna disponíveis.
Produtos e serviços
Classe 9
Apparatus and instruments in the field of plasma technology and semiconductor processingplasma sourcessources for generating plasmaplasma etching apparatus comprising scientific instruments to ionise gas for the etching of silicon and semiconductorconductor and insulating materials and semiconductor wafers and thin solid films on semiconductor wafersscientific instruments used to etch silicon and semiconductorconductor and insulating materials and semiconductor wafers and thin solid films on semiconductor wafersscientific instruments for the creation of plasmascientific instruments used to ionise gas in a reaction chamber; apparatus and instruments for plasma generationsources for generating ionized gas plasmacomprising scientific instruments for the creation of plasmascientific instruments used to ionise gas in a reaction chambercreation of plasma via induction coupling; plasma research apparatus and instrumentsplasma etching apparatus comprising scientific instruments to ionise gas for the etching of silicon and semiconductorconductor and insulating materials and semiconductor wafers and thin solid films on semiconductor wafersscientific instruments used to etch silicon and semiconductorconductor and insulating materials and semiconductor wafers and thin solid films on semiconductor wafers; plasma cluster toolsscientific apparatus comprising multiple plasma etching chambers sharing a common vacuum wafer loading moduleall being laboratory apparatus and instruments; computer hardware and software for use in operating the aforesaid goods; structural parts and fittings for all the aforesaid goods
Publicações
Histórico de despachos e eventos da marca no USPTO.
41 publicações encontradas
ADCH
CHANGE OF NAME/ADDRESS REC'D FROM IB
26/03/2026
NREP
NEW REPRESENTATIVE AT IB RECEIVED
19/02/2026
NA71
NOTICE OF ACCEPTANCE OF SEC. 71 - E-MAILED
06/11/2024
71AG
REGISTERED-SEC.71 ACCEPTED
06/11/2024
APRE
CASE ASSIGNED TO POST REGISTRATION PARALEGAL
04/11/2024
ES71
TEAS SECTION 71 RECEIVED
10/03/2024
REM4
COURTESY REMINDER - SEC. 71 (10-YR) E-MAILED
22/10/2022
RNWL
INTERNATIONAL REGISTRATION RENEWED
16/09/2022
NA75
NOTICE OF ACCEPTANCE OF SEC. 71 & 15 - E-MAILED
20/06/2019
C75A
REGISTERED - SEC. 71 ACCEPTED & SEC. 15 ACK.
20/06/2019
EROP
TEAS RESPONSE TO OFFICE ACTION-POST REG RECEIVED
14/06/2019
PR75
POST REGISTRATION ACTION MAILED - SEC. 71 & 15
10/05/2019
APRE
CASE ASSIGNED TO POST REGISTRATION PARALEGAL
30/04/2019
ES75
TEAS SECTION 71 & 15 RECEIVED
10/04/2019
REM3
COURTESY REMINDER - SEC. 71 (6-YR) E-MAILED
22/10/2018
FINO
FINAL DECISION TRANSACTION PROCESSED BY IB
18/02/2014
FICS
FINAL DISPOSITION NOTICE SENT TO IB
23/01/2014
FIMP
FINAL DISPOSITION PROCESSED
23/01/2014
FICR
FINAL DISPOSITION NOTICE CREATED, TO BE SENT TO IB
22/01/2014
R.PR
REGISTERED-PRINCIPAL REGISTER
22/10/2013
NPUB
OFFICIAL GAZETTE PUBLICATION CONFIRMATION E-MAILED
06/08/2013
PUBO
PUBLISHED FOR OPPOSITION
06/08/2013
NONP
NOTIFICATION OF NOTICE OF PUBLICATION E-MAILED
17/07/2013
PREV
LAW OFFICE PUBLICATION REVIEW COMPLETED
01/07/2013
ALIE
ASSIGNED TO LIE
28/06/2013
CNSA
APPROVED FOR PUB - PRINCIPAL REGISTER
13/06/2013
TEME
TEAS/EMAIL CORRESPONDENCE ENTERED
07/06/2013
CRFA
CORRESPONDENCE RECEIVED IN LAW OFFICE
07/06/2013
TROA
TEAS RESPONSE TO OFFICE ACTION RECEIVED
07/06/2013
ARAA
ATTORNEY/DOM.REP.REVOKED AND/OR APPOINTED
05/04/2013
REAP
TEAS REVOKE/APP/CHANGE ADDR OF ATTY/DOM REP RECEIVED
05/04/2013
RFNT
REFUSAL PROCESSED BY IB
01/01/2013
RFCS
NON-FINAL ACTION MAILED - REFUSAL SENT TO IB
11/12/2012
RFRR
REFUSAL PROCESSED BY MPU
11/12/2012
RFCR
NON-FINAL ACTION (IB REFUSAL) PREPARED FOR REVIEW
08/12/2012
CNRT
NON-FINAL ACTION WRITTEN
07/12/2012
MAFR
APPLICATION FILING RECEIPT MAILED
04/12/2012
DOCK
ASSIGNED TO EXAMINER
30/11/2012
NWOS
NEW APPLICATION OFFICE SUPPLIED DATA ENTERED
28/11/2012
REPR
SN ASSIGNED FOR SECT 66A APPL FROM IB
22/11/2012
Proteção contínua da sua marca
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