RNWL
INTERNATIONAL REGISTRATION RENEWED
26/03/2026
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Dado oficial do USPTO
LAL
Sabia que essa marca já está registrada no Estados Unidos?
Antes de investir em nome, identidade e divulgação, valide risco de colisão e estratégia de registro para não perder tempo nem budget.
Active USPTO registrationTipo: VerbalEscritório: US
Diagnóstico de risco e oportunidade
Leitura executiva para decisão de naming, protocolo e monitoramento.
Situação USPTO
Active USPTO registration
Tipo de processo
Pedido e registro
Eventos registrados
37
Atualização mais recente
26/03/2026
Classificação
Registrada
Tipo de marca
Verbal
Classes Nice
1
Data de depósito
10/04/2006
Data de registro
25/03/2008
Data de expiração
-
Ação recomendada
Execute uma análise de colidência completa e valide classes antes de qualquer protocolo ou investimento de marca.
Próximo passo
Esses são os detalhes do processo de registro. Mesmo assim, o monitoramento constante é o que garante tranquilidade de que o seu principal ativo continue protegido.
Dados completos do processo
Campos estruturados da autoridade responsável e do histórico oficial.
Data da situação
14/09/2017
Última transação
14/09/2017
Escritório responsável
United States Patent and Trademark Office
Código da situação
706
Cadastro oficial
Principal Register
Código do desenho
4
Tipo de titular
99
Localização do titular
JP
Examinador
LOWRY, LEIGH A
Unidade examinadora
M60
Localização atual
GENERIC WEB UPDATE
Titulares e representantes
Titulares
S. C. (pessoa física)
Representantes
STACEY R. HALPERN KNOBBE MARTENS OLSON & BEAR LLP
Classificação técnica
Classes Nice
Classe 1
Códigos Vienna
Sem códigos Vienna disponíveis.
Produtos e serviços
Classe 1
Chemicals used in industry; chemicals used in manufacturing structures of semiconductorsintegrated circuitsmicroscales and nano-scales and for acceleration of etching process and for forming patterns on a substrate; chemicals used in manufacturing semiconductors; chemical products for use in manufacture of semiconductorsetchants for rinsing semiconductors; chemicals for use in the manufacture of flat panel displays for use in forming patterns on the substrates of flat panel display such as liquid crystal and electroluminescent (EL); chemicals used for manufacturing of flat panel displays; chemical etchant for use in the manufacture of flat panel displays
Publicações
Histórico de despachos e eventos da marca no USPTO.
37 publicações encontradas
NREP
NEW REPRESENTATIVE AT IB RECEIVED
12/07/2024
ADCH
CHANGE OF NAME/ADDRESS REC'D FROM IB
28/09/2018
NA71
NOTICE OF ACCEPTANCE OF SEC. 71 - E-MAILED
14/09/2017
71AG
REGISTERED-SEC.71 ACCEPTED
14/09/2017
ES71
TEAS SECTION 71 RECEIVED
08/09/2017
REM4
COURTESY REMINDER - SEC. 71 (10-YR) E-MAILED
25/03/2017
RNWL
INTERNATIONAL REGISTRATION RENEWED
16/06/2016
NREP
NEW REPRESENTATIVE AT IB RECEIVED
21/04/2016
NA71
NOTICE OF ACCEPTANCE OF SEC. 71 - E-MAILED
18/02/2014
71AG
REGISTERED-SEC.71 ACCEPTED
18/02/2014
APRE
CASE ASSIGNED TO POST REGISTRATION PARALEGAL
18/02/2014
71AF
REGISTERED-SEC.71 FILED
06/02/2014
ES71
TEAS SECTION 71 RECEIVED
06/02/2014
FINO
FINAL DECISION TRANSACTION PROCESSED BY IB
22/12/2012
FICS
FINAL DISPOSITION NOTICE SENT TO IB
14/07/2008
FIMP
FINAL DISPOSITION PROCESSED
14/07/2008
FICR
FINAL DISPOSITION NOTICE CREATED, TO BE SENT TO IB
25/06/2008
R.PR
REGISTERED-PRINCIPAL REGISTER
25/03/2008
PUBO
PUBLISHED FOR OPPOSITION
08/01/2008
NPUB
NOTICE OF PUBLICATION
19/12/2007
PREV
LAW OFFICE PUBLICATION REVIEW COMPLETED
05/12/2007
ALIE
ASSIGNED TO LIE
05/12/2007
CNSA
APPROVED FOR PUB - PRINCIPAL REGISTER
30/10/2007
TEME
TEAS/EMAIL CORRESPONDENCE ENTERED
19/04/2007
CRFA
CORRESPONDENCE RECEIVED IN LAW OFFICE
18/04/2007
TROA
TEAS RESPONSE TO OFFICE ACTION RECEIVED
18/04/2007
ARAA
ATTORNEY/DOM.REP.REVOKED AND/OR APPOINTED
12/04/2007
REAP
TEAS REVOKE/APP/CHANGE ADDR OF ATTY/DOM REP RECEIVED
12/04/2007
RFNT
REFUSAL PROCESSED BY IB
18/01/2007
RFCS
NON-FINAL ACTION MAILED - REFUSAL SENT TO IB
29/12/2006
RFRR
REFUSAL PROCESSED BY MPU
29/12/2006
RFCR
NON-FINAL ACTION (IB REFUSAL) PREPARED FOR REVIEW
20/12/2006
CNRT
NON-FINAL ACTION WRITTEN
19/12/2006
DOCK
ASSIGNED TO EXAMINER
08/12/2006
NWAP
NEW APPLICATION ENTERED
08/12/2006
REPR
SN ASSIGNED FOR SECT 66A APPL FROM IB
07/12/2006
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