NA89
NOTICE OF ACCEPTANCE OF SEC. 8 & 9 - E-MAILED
18/12/2019
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Dado oficial do USPTO
WE KNOW HOW TO WRITE NANOMETER
Sabia que essa marca já está registrada no Estados Unidos?
Antes de investir em nome, identidade e divulgação, valide risco de colisão e estratégia de registro para não perder tempo nem budget.
Active USPTO registrationTipo: VerbalEscritório: US
Snapshot rápido
WE KNOW HOW TO WRITE NANOMETER
ST13
US500000078860347Classe
9, 40, 42
Pedido
78860347
Registro
3708736
Diagnóstico de risco e oportunidade
Leitura executiva para decisão de naming, protocolo e monitoramento.
Situação USPTO
Active USPTO registration
Tipo de processo
Pedido e registro
Eventos registrados
45
Atualização mais recente
18/12/2019
Classificação
Registrada
Tipo de marca
Verbal
Classes Nice
9, 40, 42
Data de depósito
12/04/2006
Data de registro
10/11/2009
Data de expiração
-
Ação recomendada
Execute uma análise de colidência completa e valide classes antes de qualquer protocolo ou investimento de marca.
Próximo passo
Esses são os detalhes do processo de registro. Mesmo assim, o monitoramento constante é o que garante tranquilidade de que o seu principal ativo continue protegido.
Dados completos do processo
Campos estruturados da autoridade responsável e do histórico oficial.
Data da situação
18/12/2019
Última transação
18/12/2019
Escritório responsável
United States Patent and Trademark Office
Código da situação
800
Cadastro oficial
Principal Register
Fundamento do pedido
Intent to use, Foreign priority
Código do desenho
4
Tipo de titular
16
Localização do titular
Ulm, DE
Examinador
CASE, LEIGH CAROLINE
Unidade examinadora
L50
Localização atual
GENERIC WEB UPDATE
Titulares e representantes
Titulares
Xlith GmbH
Representantes
KUMIKO IDE WESTERMAN, HATTORI, DANIELS & ADRIAN LLP
Classificação técnica
Classes Nice
Classe 9Classe 40Classe 42
Códigos Vienna
Sem códigos Vienna disponíveis.
Produtos e serviços
Classe 9
Software for electron beam writing and process technologyin particular for simulating and optimizing high-resolution electron beam writing and nanometer process technologies; master substrates for high-resolution and ultra high-resolution replication technologiessemiconductorsquartz and glass for use in patterning at nano scale or near nano scale; reference standardsmeasurement standard devices for nanometrologymeasuring tools having a pattern in the micrometer or nanometer ranges; high-resolution masks and reticles for use in transferring patterns on wafers and other substrates
Classe 40
Productioncustom manufacture of structures in dimensions within the range of 5nm and 250nm
Classe 42
Services in the field of electron beam writingresearchdevelopmentconsultancy and customized exposure via focused electrons on solid state substratesincluding SiGaAsInPSiCGaN and diamond; services in the field of process technologyresearchdevelopmentconsultancy of structures in dimensions within the range of 5nm and 250nm ; design oftechnical supporttroubleshooting of problemsmaintenanceupdate for software for electron beam writing and process technologyin particular for simulating and optimizing high-resolution electron beam writing and nanometer process technologies
Publicações
Histórico de despachos e eventos da marca no USPTO.
45 publicações encontradas
RNL1
REGISTERED AND RENEWED (FIRST RENEWAL - 10 YRS)
18/12/2019
89AG
REGISTERED - SEC. 8 (10-YR) ACCEPTED/SEC. 9 GRANTED
18/12/2019
APRE
CASE ASSIGNED TO POST REGISTRATION PARALEGAL
18/12/2019
E89R
TEAS SECTION 8 & 9 RECEIVED
05/11/2019
REM2
COURTESY REMINDER - SEC. 8 (10-YR)/SEC. 9 E-MAILED
10/11/2018
NA85
NOTICE OF ACCEPTANCE OF SEC. 8 & 15 - E-MAILED
14/07/2015
C15A
REGISTERED - SEC. 8 (6-YR) ACCEPTED & SEC. 15 ACK.
14/07/2015
APRE
CASE ASSIGNED TO POST REGISTRATION PARALEGAL
11/07/2015
E815
TEAS SECTION 8 & 15 RECEIVED
19/06/2015
R.PR
REGISTERED-PRINCIPAL REGISTER
10/11/2009
PUBO
PUBLISHED FOR OPPOSITION
25/08/2009
NPUB
NOTICE OF PUBLICATION
05/08/2009
PREV
LAW OFFICE PUBLICATION REVIEW COMPLETED
17/07/2009
CNSA
APPROVED FOR PUB - PRINCIPAL REGISTER
17/07/2009
TCCA
TEAS CHANGE OF CORRESPONDENCE RECEIVED
08/07/2009
TEME
TEAS/EMAIL CORRESPONDENCE ENTERED
08/07/2009
CRFA
CORRESPONDENCE RECEIVED IN LAW OFFICE
08/07/2009
TROA
TEAS RESPONSE TO OFFICE ACTION RECEIVED
08/07/2009
GNRN
NOTIFICATION OF NON-FINAL ACTION E-MAILED
08/01/2009
GNRT
NON-FINAL ACTION E-MAILED
08/01/2009
CNRT
NON-FINAL ACTION WRITTEN
08/01/2009
ZZZX
PREVIOUS ALLOWANCE COUNT WITHDRAWN
05/01/2009
PBCR
WITHDRAWN FROM PUB - OG REVIEW QUERY
17/10/2008
PREV
LAW OFFICE PUBLICATION REVIEW COMPLETED
09/10/2008
CNSA
APPROVED FOR PUB - PRINCIPAL REGISTER
08/10/2008
ACEC
AMENDMENT FROM APPLICANT ENTERED
07/10/2008
CRFA
CORRESPONDENCE RECEIVED IN LAW OFFICE
07/10/2008
PAPER RECEIVED
06/10/2008
GNS2
NOTIFICATION OF INQUIRY AS TO SUSPENSION E-MAILED
25/05/2008
GNSI
INQUIRY TO SUSPENSION E-MAILED
25/05/2008
CNSI
SUSPENSION INQUIRY WRITTEN
25/05/2008
RCCK
SUSPENSION CHECKED - TO ATTORNEY FOR ACTION
06/05/2008
RCSC
REPORT COMPLETED SUSPENSION CHECK CASE STILL SUSPENDED
05/11/2007
ALIE
ASSIGNED TO LIE
05/11/2007
GNSL
LETTER OF SUSPENSION E-MAILED
02/05/2007
CNSL
SUSPENSION LETTER WRITTEN
02/05/2007
TEME
TEAS/EMAIL CORRESPONDENCE ENTERED
12/04/2007
CRFA
CORRESPONDENCE RECEIVED IN LAW OFFICE
12/04/2007
ALIE
ASSIGNED TO LIE
12/04/2007
TROA
TEAS RESPONSE TO OFFICE ACTION RECEIVED
08/03/2007
GNRT
NON-FINAL ACTION E-MAILED
21/09/2006
CNRT
NON-FINAL ACTION WRITTEN
21/09/2006
DOCK
ASSIGNED TO EXAMINER
20/09/2006
NWAP
NEW APPLICATION ENTERED
19/04/2006
Proteção contínua da sua marca
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