NA89
NOTICE OF ACCEPTANCE OF SEC. 8 & 9 - E-MAILED
25/03/2024
Voltar para busca
Dado oficial do USPTO
EXTREME LITHOGRAPHY
Sabia que essa marca já está registrada no Estados Unidos?
Antes de investir em nome, identidade e divulgação, valide risco de colisão e estratégia de registro para não perder tempo nem budget.
Active USPTO registrationTipo: VerbalEscritório: US
Snapshot rápido
EXTREME LITHOGRAPHY
ST13
US500000076310238Classe
9, 40, 42
Pedido
76310238
Registro
2793667
Diagnóstico de risco e oportunidade
Leitura executiva para decisão de naming, protocolo e monitoramento.
Situação USPTO
Active USPTO registration
Tipo de processo
Pedido e registro
Eventos registrados
31
Atualização mais recente
25/03/2024
Classificação
Registrada
Tipo de marca
Verbal
Classes Nice
9, 40, 42
Data de depósito
07/09/2001
Data de registro
16/12/2003
Data de expiração
-
Ação recomendada
Execute uma análise de colidência completa e valide classes antes de qualquer protocolo ou investimento de marca.
Próximo passo
Esses são os detalhes do processo de registro. Mesmo assim, o monitoramento constante é o que garante tranquilidade de que o seu principal ativo continue protegido.
Dados completos do processo
Campos estruturados da autoridade responsável e do histórico oficial.
Data da situação
25/03/2024
Última transação
25/03/2024
Escritório responsável
United States Patent and Trademark Office
Código da situação
800
Cadastro oficial
Principal Register
Fundamento do pedido
Foreign priority
Primeiro uso
1998-12-00
Primeiro uso no comércio
1998-12-00
Código do desenho
1
Tipo de titular
03
Localização do titular
ULM, DE
Examinador
KAZAZIAN,MICHAEL H
Unidade examinadora
M40
Localização atual
GENERIC WEB UPDATE
Titulares e representantes
Titulares
XLITH GMBH
Maile, Bernd E.
Representantes
Daniel H. Bliss HOWARD & HOWARD ATTORNEYS PLLC
Classificação técnica
Classes Nice
Classe 9Classe 40Classe 42
Códigos Vienna
Sem códigos Vienna disponíveis.
Produtos e serviços
Classe 9
Software for electron beam writing and process technologyin particular for simulation and optimization of high resolution electron beam writing and of nanometer process technologies; master substrates for high resolution and ultra-high resolution replication technologies; measurement standard devices for nanometrologynamely measuring tools having a pattern in the micrometer or nanometer ranges
Classe 40
Custom manufacturing for others of structures having dimensions between 5mm and 250nmsemiconductorsuperconductorsmolecular aggregatespolymer structures and metals
Classe 42
Services in the field of electron beam writingresearchdevelopmentconsulting and customized services provided for others via focused electrons relating to solid state substratesfor examplesilicon (Si)gallium arsenide (GaAs)indium phosphide (InP)silicon carbide (SiC)gallium nitride (GaN) and diamond; services in the field of process technologyresearchdevelopment and consulting services provided for others relating to structures between 5nm and 250nm; development for others and technical support servicestroubleshooting of computer software problemsall in the fields of electron beam writing and process technologyin particular for simulation and optimization of high resolution electron beam writing and of nanometer process technologies
Publicações
Histórico de despachos e eventos da marca no USPTO.
31 publicações encontradas
RNL2
REGISTERED AND RENEWED (SECOND RENEWAL - 10 YRS)
25/03/2024
89AG
REGISTERED - SEC. 8 (10-YR) ACCEPTED/SEC. 9 GRANTED
25/03/2024
APRE
CASE ASSIGNED TO POST REGISTRATION PARALEGAL
25/03/2024
E89R
TEAS SECTION 8 & 9 RECEIVED
30/10/2023
REM2
COURTESY REMINDER - SEC. 8 (10-YR)/SEC. 9 E-MAILED
16/12/2022
NA89
NOTICE OF ACCEPTANCE OF SEC. 8 & 9 - E-MAILED
26/06/2013
RNL1
REGISTERED AND RENEWED (FIRST RENEWAL - 10 YRS)
26/06/2013
89AG
REGISTERED - SEC. 8 (10-YR) ACCEPTED/SEC. 9 GRANTED
26/06/2013
APRE
CASE ASSIGNED TO POST REGISTRATION PARALEGAL
25/06/2013
ASGN
AUTOMATIC UPDATE OF ASSIGNMENT OF OWNERSHIP
12/06/2013
E89R
TEAS SECTION 8 & 9 RECEIVED
10/06/2013
C15A
REGISTERED - SEC. 8 (6-YR) ACCEPTED & SEC. 15 ACK.
13/08/2009
PLGL
ASSIGNED TO PARALEGAL
12/08/2009
E815
TEAS SECTION 8 & 15 RECEIVED
10/08/2009
R.PR
REGISTERED-PRINCIPAL REGISTER
16/12/2003
PUBO
PUBLISHED FOR OPPOSITION
23/09/2003
NPUB
NOTICE OF PUBLICATION
03/09/2003
CNSA
APPROVED FOR PUB - PRINCIPAL REGISTER
07/07/2003
CFIT
CASE FILE IN TICRS
13/06/2003
CRFA
CORRESPONDENCE RECEIVED IN LAW OFFICE
22/05/2003
PAPER RECEIVED
22/05/2003
CNFR
FINAL REFUSAL MAILED
12/12/2002
DOCK
ASSIGNED TO EXAMINER
13/11/2002
CRFA
CORRESPONDENCE RECEIVED IN LAW OFFICE
31/10/2002
PAPER RECEIVED
31/10/2002
CNSL
LETTER OF SUSPENSION MAILED
02/08/2002
CRFA
CORRESPONDENCE RECEIVED IN LAW OFFICE
17/06/2002
CRFA
CORRESPONDENCE RECEIVED IN LAW OFFICE
06/06/2002
CNRT
NON-FINAL ACTION MAILED
04/12/2001
DOCK
ASSIGNED TO EXAMINER
15/11/2001
Proteção contínua da sua marca
Seja avisado a cada novo depósito que ameace EXTREME LITHOGRAPHY ou a sua marca.
Vigilância profissional por 24 meses: monitoramos o USPTO por você e alertamos a tempo de você se opor — antes que o conflito vire prejuízo.