NA89
NOTICE OF ACCEPTANCE OF SEC. 8 & 9 - E-MAILED
06/04/2023
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Dado oficial do USPTO
PLAS FINE
Sabia que essa marca já está registrada no Estados Unidos?
Antes de investir em nome, identidade e divulgação, valide risco de colisão e estratégia de registro para não perder tempo nem budget.
Active USPTO registrationTipo: VerbalEscritório: US
Diagnóstico de risco e oportunidade
Leitura executiva para decisão de naming, protocolo e monitoramento.
Situação USPTO
Active USPTO registration
Tipo de processo
Pedido e registro
Eventos registrados
36
Atualização mais recente
06/04/2023
Classificação
Registrada
Tipo de marca
Verbal
Classes Nice
1
Data de depósito
30/06/2000
Data de registro
31/12/2002
Data de expiração
-
Ação recomendada
Execute uma análise de colidência completa e valide classes antes de qualquer protocolo ou investimento de marca.
Próximo passo
Esses são os detalhes do processo de registro. Mesmo assim, o monitoramento constante é o que garante tranquilidade de que o seu principal ativo continue protegido.
Dados completos do processo
Campos estruturados da autoridade responsável e do histórico oficial.
Data da situação
06/04/2023
Última transação
06/04/2023
Escritório responsável
United States Patent and Trademark Office
Código da situação
800
Cadastro oficial
Principal Register
Fundamento do pedido
Intent to use
Primeiro uso
12/08/2000
Primeiro uso no comércio
12/08/2000
Código do desenho
1
Tipo de titular
03
Localização do titular
Uji-shi, Kyoto, JP
Examinador
BROWN, BRIAN
Unidade examinadora
L50
Localização atual
GENERIC WEB UPDATE
Titulares e representantes
Titulares
GOO CHEMICAL CO., LTD.
GOO CHEMICAL CO., LTD.
Representantes
Michael T. Smith Birch Stewart Kolasch & Birch, LLP
Classificação técnica
Classes Nice
Classe 1
Códigos Vienna
Sem códigos Vienna disponíveis.
Produtos e serviços
Classe 1
ETCHING RESISTPLATING RESISTSOLDER RESISTFILING *FILLING* RESIN USED FOR MANUFACTURING PRINTED CIRCUIT BOARD ; PHOTOSENSITIVE DRY FILMS FOR USE IN THE MANUFACTURE OF PRINTED CIRCUITSDRY FILM PHOTORESIST; AND PHOTOSENSITIVE CHEMICALSLIQUID PHOTOIMAGEABLE SOLDER RESISTELECTRODEPOSITED PHOTORESIST
Publicações
Histórico de despachos e eventos da marca no USPTO.
36 publicações encontradas
RNL2
REGISTERED AND RENEWED (SECOND RENEWAL - 10 YRS)
06/04/2023
89AG
REGISTERED - SEC. 8 (10-YR) ACCEPTED/SEC. 9 GRANTED
06/04/2023
APRE
CASE ASSIGNED TO POST REGISTRATION PARALEGAL
06/04/2023
E89R
TEAS SECTION 8 & 9 RECEIVED
27/09/2022
REM2
COURTESY REMINDER - SEC. 8 (10-YR)/SEC. 9 E-MAILED
31/12/2021
TCCA
TEAS CHANGE OF CORRESPONDENCE RECEIVED
16/10/2015
NA89
NOTICE OF ACCEPTANCE OF SEC. 8 & 9 - E-MAILED
05/12/2012
RNL1
REGISTERED AND RENEWED (FIRST RENEWAL - 10 YRS)
05/12/2012
89AG
REGISTERED - SEC. 8 (10-YR) ACCEPTED/SEC. 9 GRANTED
05/12/2012
APRE
CASE ASSIGNED TO POST REGISTRATION PARALEGAL
05/12/2012
E89R
TEAS SECTION 8 & 9 RECEIVED
09/11/2012
TCCA
TEAS CHANGE OF CORRESPONDENCE RECEIVED
07/11/2012
C15A
REGISTERED - SEC. 8 (6-YR) ACCEPTED & SEC. 15 ACK.
16/12/2008
PLGL
ASSIGNED TO PARALEGAL
16/12/2008
E815
TEAS SECTION 8 & 15 RECEIVED
07/11/2008
CFIT
CASE FILE IN TICRS
09/01/2008
ARAA
ATTORNEY/DOM.REP.REVOKED AND/OR APPOINTED
21/11/2007
REAP
TEAS REVOKE/APP/CHANGE ADDR OF ATTY/DOM REP RECEIVED
21/11/2007
COC.
CORRECTION UNDER SECTION 7 - PROCESSED
31/12/2003
AMD7
SEC 7 REQUEST FILED
18/07/2003
PAPER RECEIVED
18/07/2003
R.PR
REGISTERED-PRINCIPAL REGISTER
31/12/2002
CNPR
ALLOWED PRINCIPAL REGISTER - SOU ACCEPTED
17/10/2002
DOCK
ASSIGNED TO EXAMINER
16/10/2002
SUPC
STATEMENT OF USE PROCESSING COMPLETE
19/09/2002
IUAF
USE AMENDMENT FILED
19/09/2002
PAPER RECEIVED
19/09/2002
NOAM
NOA MAILED - SOU REQUIRED FROM APPLICANT
16/04/2002
PUBO
PUBLISHED FOR OPPOSITION
22/01/2002
NPUB
NOTICE OF PUBLICATION
02/01/2002
CNSA
APPROVED FOR PUB - PRINCIPAL REGISTER
04/10/2001
CRFA
CORRESPONDENCE RECEIVED IN LAW OFFICE
14/06/2001
CNRT
NON-FINAL ACTION MAILED
14/12/2000
DOCK
ASSIGNED TO EXAMINER
29/11/2000
DOCK
ASSIGNED TO EXAMINER
28/11/2000
Proteção contínua da sua marca
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