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Dado oficial do USPTO

TOK

Sabia que essa marca já está registrada no Estados Unidos?

Antes de investir em nome, identidade e divulgação, valide risco de colisão e estratégia de registro para não perder tempo nem budget.

Active USPTO registrationTipo: MistaEscritório: US

Snapshot rápido

TOK

ST13

US500000074351997

Classe

1

Pedido

74351997

Registro

1813277

Diagnóstico de risco e oportunidade

Leitura executiva para decisão de naming, protocolo e monitoramento.

Atenção: há risco ativo

Situação USPTO

Active USPTO registration

Tipo de processo

Pedido e registro

Eventos registrados

29

Atualização mais recente

05/04/2024

Classificação

Registrada

Tipo de marca

Mista

Classes Nice

1

Data de depósito

25/01/1993

Data de registro

28/12/1993

Data de expiração

-

Ação recomendada

Execute uma análise de colidência completa e valide classes antes de qualquer protocolo ou investimento de marca.

Próximo passo

Esses são os detalhes do processo de registro. Mesmo assim, o monitoramento constante é o que garante tranquilidade de que o seu principal ativo continue protegido.

Dados completos do processo

Campos estruturados da autoridade responsável e do histórico oficial.

Data da situação

05/04/2024

Última transação

05/04/2024

Escritório responsável

United States Patent and Trademark Office

Código da situação

800

Cadastro oficial

Principal Register

Primeiro uso

15/06/1987

Primeiro uso no comércio

15/06/1987

Código do desenho

3

Tipo de titular

03

Localização do titular

KANAGAWA-KEN, JP

Examinador

FRIEDMAN, RICHARD A.

Unidade examinadora

J60

Localização atual

GENERIC WEB UPDATE

Titulares e representantes

Titulares

TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
T.O.K. International, Inc.

Representantes

Victoria Friedman Dennemeyer & Associates, LLC

Classificação técnica

Classes Nice

Classe 1

Códigos Vienna

Sem códigos Vienna disponíveis.

Produtos e serviços

Classe 1

photoresists; namely, organic liquid chemicals used in the fabrication of integrated circuits and developer; namely, chemicals consisting of high - purity water and trace amounts of surfactants used to remove exposed photoresist in the fabrication of integrated circuits

Publicações

Histórico de despachos e eventos da marca no USPTO.

29 publicações encontradas

NA89

NOTICE OF ACCEPTANCE OF SEC. 8 & 9 - E-MAILED

05/04/2024

RNL3

REGISTERED AND RENEWED (THIRD RENEWAL - 10 YRS)

05/04/2024

89AG

REGISTERED - SEC. 8 (10-YR) ACCEPTED/SEC. 9 GRANTED

05/04/2024

APRE

CASE ASSIGNED TO POST REGISTRATION PARALEGAL

05/04/2024

E89R

TEAS SECTION 8 & 9 RECEIVED

17/11/2023

REM2

COURTESY REMINDER - SEC. 8 (10-YR)/SEC. 9 E-MAILED

28/12/2022

NA89

NOTICE OF ACCEPTANCE OF SEC. 8 & 9 - E-MAILED

29/07/2013

RNL2

REGISTERED AND RENEWED (SECOND RENEWAL - 10 YRS)

29/07/2013

89AG

REGISTERED - SEC. 8 (10-YR) ACCEPTED/SEC. 9 GRANTED

29/07/2013

E89R

TEAS SECTION 8 & 9 RECEIVED

23/07/2013

CFIT

CASE FILE IN TICRS

07/09/2007

CORV

REVIEW OF CORRESPONDENCE COMPLETE

01/09/2006

MAIL

PAPER RECEIVED

21/08/2006

RNL1

REGISTERED AND RENEWED (FIRST RENEWAL - 10 YRS)

21/02/2004

89AG

REGISTERED - SEC. 8 (10-YR) ACCEPTED/SEC. 9 GRANTED

21/02/2004

89AF

REGISTERED - COMBINED SECTION 8 (10-YR) & SEC. 9 FILED

23/12/2003

E89R

TEAS SECTION 8 & 9 RECEIVED

23/12/2003

C15A

REGISTERED - SEC. 8 (6-YR) ACCEPTED & SEC. 15 ACK.

15/12/2000

PR23

RESPONSE RECEIVED TO POST REG. ACTION - SEC. 8 & 15

15/09/2000

PR23

POST REGISTRATION ACTION MAILED - SEC. 8 & 15

16/03/2000

815F

REGISTERED - SEC. 8 (6-YR) & SEC. 15 FILED

29/11/1999

R.PR

REGISTERED-PRINCIPAL REGISTER

28/12/1993

PUBO

PUBLISHED FOR OPPOSITION

05/10/1993

NPUB

NOTICE OF PUBLICATION

03/09/1993

CNSA

APPROVED FOR PUB - PRINCIPAL REGISTER

21/07/1993

CRFA

CORRESPONDENCE RECEIVED IN LAW OFFICE

25/06/1993

UNPR

UNRESPONSIVE/DUPLICATE PAPER RECEIVED

26/05/1993

CNRT

NON-FINAL ACTION MAILED

27/04/1993

DOCK

ASSIGNED TO EXAMINER

12/04/1993

Proteção contínua da sua marca

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