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Registro EXTINTO, com base na norma legal indicada.
INCISO I DO ART.142 DA LPI
RPI 1662
12/11/2002
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Dado oficial do INPI
TECNOTERM
Essa marca aparece no histórico oficial do INPI.
Mesmo quando o status está encerrado, o histórico ajuda a calibrar o risco, evitar repetição de erros e definir uma estratégia segura de naming.
Registro ExtintoTipo: VerbalEscritório: Brasil
Andamento no INPI
- Depósito24/06/88
- Publicação
- Exame
- Deferimento06/03/90
- Concessão31/07/90
- Extinto12/11/02
Registro concedido em 31/07/1990 e depois extinto. A marca deixou de ter proteção.
Verificar se este nome está livreÚltima movimentação publicada pelo INPI: 12/11/2002. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Diagnóstico de risco e oportunidade
Leitura executiva para decisão de naming, protocolo e monitoramento.
Situação INPI
Registro Extinto
Tipo de processo
Pedido e registro
Eventos registrados
10
Atualização mais recente
12/11/2002
Tipo de marca
Verbal
Classes Nice
19
Data de depósito
24/06/1988
Data de registro
31/07/1990
Data de expiração
31/07/2000
Dados completos do processo
Campos estruturados da autoridade responsável e do histórico oficial.
Natureza
De Produto
Escritório responsável
Brasil
Tipo de titular
NÃO RESIDENTE
Localização do titular
US
Titulares e representantes
Titulares
THE DOW CHEMICAL COMPANY
Representantes
E. S. (pessoa física)
Classificação técnica
Classes Nice
Classe 19
Códigos Vienna
Sem códigos Vienna disponíveis.
Produtos e serviços
Classe 19
Edificações, estruturas e módulos pré-fabricados ou pré-moldados
Publicações
Histórico de despachos e eventos da marca no INPI.
10 publicações encontradas
888
MANTIDA A CONCESSAO DO REGISTRO, face ao indicado no complemento.
RECURSO CONHECIDO. NEGADO PROVIMENTO * INT ERNA JOANA H SHIAVO
RPI 1355
19/11/1996
515
RECURSO interposto ao Sr. MINISTRO DE ESTADO DE JUSTICA, contra a decisao abaixo indicada.
MANUTENÇÃO REGISTRO REC. TECNO THERM EQUIPAMENTOS E INSTALAÇÕES LTDA (BR/SP) *INT. ERNA JOANA HOCK SCHIAVO
RPI 1171
11/05/1993
805
REVISAO ADMINISTRATIVA CONHECIDA. NEGADO PROVIMENTO. MANTIDA A CONCESSAO DO REGISTRO.
INT ERNA JOANA HOCK SCHIAVO
RPI 1151
22/12/1992
510
Notificacao de REVISAO ADMINISTRATIVA instaurada por requerimento de terceiros. Inicia-se, nesta data, o prazo de 60 (sessenta) dias para que, na conformidade do disposto no paragrafo 2o. do Art. 101 do CPI, o titular do Registro ofereca contestacao ao procedimento ora instaurado. Declara-se, neste ato, o interesse publico no reexame da concessao do registro.
REQ. TECNO THERM EQUIPAMENTOS E INSTALACOES LTDA (BR/SP) *INT. ERNA JOANA HOCK SCHIAVO
RPI 1067
14/05/1991
400
Comunicacao de CONCESSAO DE REGISTRO, fixando-se a data desta RPI para o INICIO DE SUA VIGENCIA. O Certificado de Registro estara a disposicao do Titular na recepcao da Diretoria de Marcas, apos 60 (sessenta) dias a contar desta data. Podera, a pedido, ser remetido a qualquer Delegacia e/ou Representacao do INPI/MICT.
INT. ERNA JOANA HOCK SCHIAVO
RPI 1026
31/07/1990
250
Inicia-se, nesta data, face a nao interposicao de recurso, o prazo de 60 (sessenta) dias para que o requerente COMPROVE, junto ao INPI, o recolhimento da RETRIBUICAO RELATIVA A PROTECAO DO DECENIO, no exato valor previsto na Tabela de Custos de Servicos Prestados, vigente a epoca do recolhimento a(s) entidade(s) financeira(s) credenciadas pelo INPI para arrecadacao, SOB PENA DE ARQUIVAMENTO IRRECORRIVEL.
INT. ERNA JOANA HOCK SCHIAVO
RPI 1008
06/03/1990
350
DEFERIDO o pedido de registro, com base no Art. 64 do CPI.
NO CONJUNTO *INT. ERNA JOANA HOCK SCHIAVO
RPI 988
26/09/1989
205
OPOSICAO(OES) de terceiro(s) indicado(s), face ao despacho de viabilidade anteriormente publicado.
OPON. TEKNO S/A CONSTRUÇÕES, INDUSTRIA E COMÉRCIO (BR/SP) * INT. ERNA JOANA HOCK SCHIAVO.
RPI 968
09/05/1989
300
Reconhecida a VIABILIDADE do pedido de registro, de acordo com o paragrafo 4o. do Art. 79 do CPI.
INT. ERNA JOANA HOCK SCHIAVO
RPI 946
06/12/1988
THE DOW CHEMICAL COMPANY também protege tecnologia e design no INPI
1.320 pedidos de patente e 1 desenho industrial no mesmo titular.
Patentes
COMPOSIÇÃO RETARDANTE DE CHAMA LIVRE DE HALOGÊNIO, PAINEL COM...FORMULAÇÃO DE POLIETILENO CURÁVEL POR UMIDIFICAÇÃOCOMPOSIÇÃO DE ASFALTO, E, MÉTODO PARA PRODUZIR UMA COMPOSIÇÃO...DISPERSÃO AQUOSA DE IONÔMERO, MÉTODO DE FABRICAÇÃO DE ...DISPERSÃO AQUOSA DO IONÔMERO, MÉTODO PARA FABRICAR UMA DISPER...COMPOSIÇÃO POLIMÉRICA RETICULÁVEL POR UMIDIFICAÇÃO, CABO E MÉ...
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