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Dati ufficiali dell'INPI

NOVA ARQUITETURA DE CONTROLE PARA EMISSÃO LASER DE PULSOS CURTOS E DISPOSITIVO DE AFERIÇÃO DE POTÊNCIA APLICADA EM EQUIPAMENTOS ELETROMÉDICOS OFTALMOLÓGICOS

Em AnáliseBrevetto per invenzioneDocumento ufficiale disponibile

Dati della domanda

Numero

102019019515

Tipo

Brevetto per invenzione

Deposito

19/09/2019

Pubblicazione

30/03/2021

Brevetto concesso disponibile

Disponiamo del documento ufficiale completo di questa pratica, pubblicato dall'INPI.

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Stato presso l'INPI

In ricorso
  1. Deposito19/09/19
  2. Pubblicazione30/03/21
  3. Esame
  4. Accoglimento
  5. Concessione
  6. In vigore

O pedido está em fase de recurso: o INPI ainda vai rever a decisão.

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Ultimo atto pubblicato dall'INPI: 07/07/2026. Aggiorniamo a ogni nuova RPI, pubblicata settimanalmente.

Depositanti e inventori

Depositanti

OPTO ELETRÔNICA S/A.

SP, BR

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Inventori

A. F. (pessoa física)

BR

D. C. (pessoa física)

BR

M. S. (pessoa física)

BR

N. A. (pessoa física)

BR

Dati tecnici

Classificazione IPC

Abstract

NOVA ARQUITETURA DE CONTROLE PARA EMISSÃO LASERDE PULSOS CURTOS E DISPOSITIVO DE AFERIÇÃO DEPOTÊNCIA APLICADA EM EQUIPAMENTOS ELETROMÉDICOSOFTALMOLÓGICOS. A presente invenção se refere a uma nova arquitetura de controle para emissão laser, em especial aqueles cuja amplificação laser é resultante de emissão estimulada em meio ativo de estado sólido, estimulada por bombeamento produzido por iluminação por diodo laser, conhecidos pela sigla DPSS, onde esta iluminação é controlada por dispositivos eletrônicos, de forma que seja possível a geração de pulsos muito rápidos, pelo monitoramento dinâmico do controle de chaveamento de potencia e do emprego de conjuntos de componentes ajustados de forma a terem comportamento dinâmico simulados mas equivalentes ao diodo emissor principal, permitindo que sejam feitas medições de atrasos e desvios internos de forma que o arranjo permita a continua aferição e calibração automática de suas partes internas , dos atrasos, desvios de desempenho e erro do circuito, de forma que a potência aplicada ao olho paciente, em especial em procedimentos oftalmológicos, esteja dentro das margens de segurança, e automaticamente compense esta emissão perante os fatores de envelhecimento e desgaste do dispositivo e que permita que os meios de envio do feixe ao olho do paciente seja aferido de forma correspondente.

Storico delle procedure

Pubblicazioni nella Gazzetta Brasiliana della Proprietà Industriale (RPI).

Anotação de limitação ou ônus

#25.13

ANOTAÇÃO DE LIMITAÇÃO OU ÔNUS Ref: Processo SEI/INPI 52402.011029/2026-35 Conforme determinado pelo Juiz Federal Substituto Douglas Belchior Souza da 1a Vara Federal de Ribeirão Preto/SP da Justiça Federal da 3a Região - 1o grau, fica anotada, de acordo com o art. 59, II, da LPI, a penhora do referido pedido de patente.

07/07/2026

RPI 2896

Petição de recurso

#12.2

Recurso: Petição 870250090628, de 04/10/2025

21/10/2025

RPI 2859

Indeferimento

#9.2

05/08/2025

RPI 2848

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

08/04/2025

RPI 2831

Publicação do pedido de patente

#3.1

30/03/2021

RPI 2621

Pedido de patente depositado

#2.1

28/01/2020

RPI 2560

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

31/12/2019

RPI 2556

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870190093738' em 19/09/2019 11:51 (WB)

01/10/2019

RPI 2543

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