21/07/2026
RPI 2898
Anotação de transferência de titularidade em designação
IPAS901
Protocolo: 2099664601 (30/04/2026) Petição (tipo): Protocolo de Madri - NEWNAME Cedente: HUWAIS IP HOLDING LLC [US] Cessionário: Versah, LLC
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Brasile501516339
Versah OD Osseodensification Academy
HUWAIS IP HOLDING LLC+1
Registro de marca em vigor (Madri)Classe 41Misto
Prima di investire in nome, identità e comunicazione, valuta il rischio di collisione e la strategia di registrazione per non perdere tempo né budget.
Avanzamento presso l'INPI
- In vigore14/12/29
Registrazione concessa il 20/07/2021 e in vigore fino al 14/12/2029, quando dovrà essere rinnovata.
Protezione valida fino al:14/12/2029
Ultimo atto pubblicato dall'INPI: 21/07/2026. Aggiorniamo a ogni nuova RPI, pubblicata settimanalmente.
Classificazione tecnica
Codici Vienna
9.1.1027.5.1
Prodotti e servizi
Classe 41
Medical training and teachingtraining in the use and operation of dental implantology tools and consultation relating thereto
Pubblicazioni
Cronologia delle decisioni e degli eventi del marchio presso l'INPI.
6 pubblicazioni trovate
14/03/2023
RPI 2723
Anotação de alteração de nome e/ou endereço em designação
IPAS900
Protocolo: 1553304401 (10/02/2022) Petição (tipo): Protocolo de Madri - NEWNAME Detalhes do despacho:Sede alterada.
08/09/2021
RPI 2644
Deferimento da petição
IPAS270
Protocolo: 850210347322 (13/08/2021) Petição (tipo): Nomeação, destituição ou substituição de procurador [em processo de registro] (385.1) Requerente: HUWAIS IP HOLDING LLC Procurador: Daniel Advogados (Alt.de Daniel & Cia) Detalhes do despacho:Nomeado procurador Daniel Advogados com poderes para representar o titular do processo perante o INPI.
20/07/2021
RPI 2637
Concessão de registro em designação
IPAS770
10/11/2020
RPI 2601
Deferimento de designação
IPAS768
02/06/2020
RPI 2578
Publicação de pedido de registro para oposição (exame formal de designação concluído)
IPAS756
HUWAIS IP HOLDING LLC protegge anche tecnologia e design presso l'INPI
4 domande di brevetto dello stesso titolare.
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