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Official data from INPI

COMPOSTO DE FENOXIFOSFAZENO RETICULADO, SEU PROCESSO DE PREPARAÇÃO, RETARDANTE DE CHAMA COMPREENDENDO O REFERIDO COMPOSTO, COMPOSIÇÕES DE RESINA RETARDANTE DE CHAMA E ARTIGOS MOLDADOS DE RESINA RETARDANTE DE CHAMA.

ExtintaInvention PatentPCT · JP1999004256

Application data

Number

PI9913002

Type

Invention Patent

Filing

08/05/1999

Publication

09/25/2001

PCT

JP1999004256

Progress at the INPI

  1. Filing08/05/99
  2. Publication09/25/01
  3. Examination
  4. Allowance09/14/10
  5. Grant05/31/11
  6. Terminated09/19/17

The patent was granted on 05/31/2011 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 09/19/2017. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Otsuka Chemical Co., Ltd.

JP

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Inventors

T. Y. (pessoa física)

JP

Y. N. (pessoa física)

JP

Y. N. (pessoa física)

JP

Y. T. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

JP

10/228897 · 08/13/1998

JP

10/248415 · 09/02/1998

Abstract

Patente de Invenção: "COMPOSTOS DE FENOXIFOSFAZENO RETICULADOS, PROCESSO PARA A SUA PREPARAÇÃO, RETARDANTES DE CHAMA, COMPOSIÇÕES DE RESINA RETARDANTE DE CHAMA E MOLDES DE RESINAS RETARDANTES DE CHAMA" . Esta invenção provê um retardante de chama livre de halogênio que vantajosamente tem um ponto de fusão alto e uma baixa volatilidade e não prejudica as propriedades inerentes das resinas. O retardante de chama de invenção é um composto de fosfazeno reticulado com um grupo de reticulação tal como grupo fenileno, onde cada um dos grupos reticulados é interposto entre os dois grupos de oxigênio deixados após a eliminação dos grupo fenila do composto de fosfazeno; o composto de fenoxifosfazeno reticulado não tem nenhum grupo hidroxila livre (derivado dos grupos de reticulação); e a quantidade dos grupos fenila no composto reticulado é de 50 a 99,9% com base no número total de grupos fenila no composto de fosfazeno.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2422 de 06-06-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

09/19/2017

RPI 2437

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 18ª anuidade.

06/06/2017

RPI 2422

Concessão da patente

#16.1

05/31/2011

RPI 2108

Deferimento

#9.1

09/14/2010

RPI 2071

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

02/23/2010

RPI 2042

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

07/14/2009

RPI 2010

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

09/25/2001

RPI 1603

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